| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-18页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 透明导电氧化物薄膜的种类 | 第12-15页 |
| 1.2.1 In_2O_3基透明导电氧化物薄膜 | 第13页 |
| 1.2.2 Zn O基透明导电氧化物薄膜 | 第13-14页 |
| 1.2.3 SnO_2基透明导电氧化物薄膜 | 第14-15页 |
| 1.3 透明导电薄膜的应用 | 第15-16页 |
| 1.3.1 透明电极 | 第15页 |
| 1.3.2 透明视窗 | 第15页 |
| 1.3.3 电磁屏蔽膜 | 第15-16页 |
| 1.4 TCO/Metal/TCO透明导电薄膜的研究进展 | 第16-17页 |
| 1.5 本课题的研究意义 | 第17-18页 |
| 第二章 透明导电薄膜的制备及表征 | 第18-23页 |
| 2.1 透明导电薄膜的制备 | 第18-21页 |
| 2.1.1 磁控溅射镀膜 | 第18页 |
| 2.1.2 真空蒸发镀膜 | 第18-19页 |
| 2.1.3 化学气相沉积 | 第19页 |
| 2.1.4 溶胶—凝胶法 | 第19页 |
| 2.1.5 脉冲激光沉积镀膜 | 第19-21页 |
| 2.2 薄膜表征 | 第21-23页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第21页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第21页 |
| 2.2.3 紫外可见光分光光度计 | 第21页 |
| 2.2.4 霍尔效应测试仪 | 第21页 |
| 2.2.5 四探针测试仪 | 第21页 |
| 2.2.6 台阶仪 | 第21-22页 |
| 2.2.7 膜厚监控仪 | 第22-23页 |
| 第三章 SnO_2/Au/SnO_2薄膜光电性能研究 | 第23-38页 |
| 3.1 引言 | 第23-24页 |
| 3.2 实验 | 第24页 |
| 3.3 Au层厚度对SnO_2/Au/SnO_2薄膜光电性能的影响 | 第24-28页 |
| 3.4 SnO_2层厚度对SnO_2/Au/SnO_2光电性能的影响 | 第28-31页 |
| 3.5 制备温度对SnO_2/Au/SnO_2薄膜光电性能的影响 | 第31-34页 |
| 3.6 退火温度对SnO_2/Au/SnO_2薄膜光电性能的影响 | 第34-38页 |
| 第四章 Zn O/Au/SnO_2复合薄膜光电性能的研究 | 第38-41页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 实验 | 第38页 |
| 4.3 Zn O/Au/SnO_2薄膜性能研究 | 第38-40页 |
| 4.4 总结 | 第40-41页 |
| 第五章 SnO_2/Ag/SnO_2透明导电薄膜光电性能的研究 | 第41-45页 |
| 5.1 引言 | 第41页 |
| 5.2 实验 | 第41页 |
| 5.3 Ag层厚度对薄膜光电性能的影响 | 第41-43页 |
| 5.4 不同SnO_2层厚度下SnO_2/Ag/SnO_2薄膜性能的研究 | 第43-44页 |
| 5.5 总结 | 第44-45页 |
| 第六章 总结与展望 | 第45-47页 |
| 6.1 总结 | 第45页 |
| 6.2 展望 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-57页 |
| 作者简历 | 第57页 |
