| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第14-24页 |
| 1.1 空间太阳电池玻璃盖板及表面处理 | 第14页 |
| 1.2 MgF_2薄膜研究现状 | 第14-16页 |
| 1.2.1 MgF_2的结构和性能 | 第14页 |
| 1.2.2 MgF_2薄膜增透原理 | 第14-15页 |
| 1.2.3 MgF_2薄膜研究现状 | 第15-16页 |
| 1.3 ITO薄膜研究现状 | 第16-17页 |
| 1.3.1 ITO的结构和性能 | 第16页 |
| 1.3.2 ITO薄膜透明导电原理 | 第16页 |
| 1.3.3 ITO薄膜研究现状 | 第16-17页 |
| 1.4 MgF_2薄膜和ITO薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
| 1.4.1 蒸发法 | 第17-18页 |
| 1.4.2 溅射法 | 第18页 |
| 1.4.3 溶胶-凝胶法 | 第18页 |
| 1.4.4 化学气相沉积法(CVD) | 第18-19页 |
| 1.5 MgF_2薄膜和ITO薄膜性能改善方法 | 第19-22页 |
| 1.5.1 调控薄膜沉积工艺参数 | 第19-20页 |
| 1.5.2 离子束辅助沉积 | 第20页 |
| 1.5.3 退火处理 | 第20-21页 |
| 1.5.4 等离子体后处理 | 第21-22页 |
| 1.6 ITO/MgF_2复合薄膜的应用及研究现状 | 第22页 |
| 1.6.1 ITO/MgF_2复合薄膜的应用 | 第22页 |
| 1.6.2 ITO/MgF_2复合薄膜研究现状 | 第22页 |
| 1.7 研究背景及主要内容 | 第22-24页 |
| 第2章 实验方法 | 第24-30页 |
| 2.1 光学薄膜设计与模拟软件 | 第24页 |
| 2.2 薄膜衬底及其预处理 | 第24页 |
| 2.3 薄膜的制备装置及工艺 | 第24-26页 |
| 2.3.1 薄膜的制备装置 | 第24-25页 |
| 2.3.2 薄膜的制备工艺 | 第25-26页 |
| 2.4 离子束轰击装置及工艺 | 第26-27页 |
| 2.4.1 离子束轰击装置 | 第26-27页 |
| 2.4.2 离子束轰击工艺 | 第27页 |
| 2.5 薄膜的组织结构表征方法 | 第27-28页 |
| 2.5.1 场发射扫描电子显微镜及X射线能量色散谱仪 | 第27-28页 |
| 2.5.2 原子力显微镜 | 第28页 |
| 2.5.3 X射线衍射仪 | 第28页 |
| 2.6 薄膜的性能测试方法 | 第28-30页 |
| 2.6.1 紫外-可见分光光度计 | 第28-29页 |
| 2.6.2 四探针测试仪 | 第29页 |
| 2.6.3 霍尔效应测试仪 | 第29-30页 |
| 第3章 ITO/MgF_2复合薄膜光学设计 | 第30-36页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 不同厚度单层MgF_2薄膜透过率模拟 | 第30-31页 |
| 3.3 ITO/MgF_2复合薄膜中ITO薄膜膜厚设计 | 第31-33页 |
| 3.4 ITO/MgF_2复合薄膜中MgF_2薄膜膜厚设计 | 第33-35页 |
| 3.5 小结 | 第35-36页 |
| 第4章 直接沉积法制备ITO/MgF_2复合薄膜 | 第36-47页 |
| 4.1 引言 | 第36页 |
| 4.2 ITO防静电层工艺参数调控 | 第36-42页 |
| 4.2.1 ITO沉积速率对ITO/MgF_2复合薄膜光电性能的影响 | 第36-37页 |
| 4.2.2 沉积温度对ITO/MgF_2复合薄膜光电性能的影响 | 第37-39页 |
| 4.2.3 工作气压对ITO/MgF_2复合薄膜光电性能的影响 | 第39-40页 |
| 4.2.4 ITO防静电层连续性研究 | 第40-42页 |
| 4.3 MgF_2增透层工艺参数调控 | 第42-45页 |
| 4.3.1 MgF_2薄膜厚度对ITO/MgF_2复合薄膜光学性能的影响 | 第43-44页 |
| 4.3.2 MgF_2沉积速率对ITO/MgF_2复合薄膜光学性能的影响 | 第44-45页 |
| 4.4 小结 | 第45-47页 |
| 第5章 离子束斜角轰击减薄法制备ITO/MgF_2复合薄膜 | 第47-63页 |
| 5.1 引言 | 第47页 |
| 5.2 氩离子屏压对ITO薄膜结构、表面形貌及光电性能的影响 | 第47-54页 |
| 5.2.1 氩离子屏压对ITO薄膜结构、表面形貌的影响 | 第47-51页 |
| 5.2.2 氩离子屏压对ITO薄膜电学性能的影响 | 第51-52页 |
| 5.2.3 氩离子屏压对ITO薄膜光学性能的影响 | 第52-54页 |
| 5.3 氩离子束流对ITO薄膜结构、表面形貌及光电性能的影响 | 第54-60页 |
| 5.3.1 氩离子束流对ITO薄膜结构、表面形貌的影响 | 第54-57页 |
| 5.3.2 氩离子束流对ITO薄膜电学性能的影响 | 第57-58页 |
| 5.3.3 氩离子束流对ITO薄膜光学性能的影响 | 第58-60页 |
| 5.4 氩离子束斜角轰击减薄法制备ITO/MgF_2复合薄膜 | 第60-61页 |
| 5.5 小结 | 第61-63页 |
| 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 附录A 读研期间发表学术论文和参与科研项目 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
