| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 TiO_2概述 | 第9-11页 |
| 1.2.1 TiO_2的晶体结构 | 第9-10页 |
| 1.2.2 TiO_2的能带结构 | 第10-11页 |
| 1.3 光阴极保护性能 | 第11-14页 |
| 1.3.1 光阴极保护原理 | 第11-12页 |
| 1.3.2 光阴极保护的研究进展 | 第12-13页 |
| 1.3.3 提升光阴极保护的方法 | 第13-14页 |
| 1.4 TiO_2涂层的制备方法 | 第14-17页 |
| 1.4.1 溶胶-凝胶法制备TiO_2涂层 | 第14-16页 |
| 1.4.2 磁控溅射法制备 Ti O_2涂层 | 第16页 |
| 1.4.3 阳极氧化法制备TiO_2涂层 | 第16页 |
| 1.4.4 化学气相沉积法 | 第16-17页 |
| 1.5 镁合金防腐蚀研究进展 | 第17-18页 |
| 1.6 本论文研究目的、意义及内容 | 第18-20页 |
| 2 实验制备、原理及方法 | 第20-26页 |
| 2.1 实验制备及原理 | 第20-22页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第20页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第20-21页 |
| 2.1.3 溶胶的制备 | 第21-22页 |
| 2.1.4 膜层的制备 | 第22页 |
| 2.2 光电化学测试 | 第22-24页 |
| 2.3 涂层的表征与性能测试 | 第24-26页 |
| 3 纯Ti表面W改性TiO_2光电化学防腐蚀性能 | 第26-62页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 纯Ti表面WO_3/TiO_2叠层涂层的光电化学性能 | 第26-34页 |
| 3.2.1 最优化实验方案 | 第26-27页 |
| 3.2.2 最优化实验结果 | 第27-29页 |
| 3.2.3 热处理温度对WO_3/TiO_2涂层的光电化学性能的影响 | 第29-34页 |
| 3.3 纯Ti表面WO_3-TiO_2涂层的光电化学性能 | 第34-40页 |
| 3.3.1 最优化实验方案 | 第34-35页 |
| 3.3.2 最优化实验结果 | 第35-37页 |
| 3.3.3 WO_3-TiO_2涂层的表面形貌 | 第37-38页 |
| 3.3.4 机理分析 | 第38-40页 |
| 3.4 纯Ti表面W-TiO_2涂层的光电化学性能 | 第40-57页 |
| 3.4.1 W掺杂量对纯Ti表面TiO_2涂层光电化学性能的影响 | 第40-49页 |
| 3.4.2 热处理温度对纯钛表面W-TiO_2涂层光电化学性能的影响 | 第49-55页 |
| 3.4.3 TiO_2浓度对纯Ti表面W-TiO_2涂层耐蚀性的影响 | 第55-56页 |
| 3.4.4 膜层厚度对纯钛表面W-TiO_2涂层耐蚀性的影响 | 第56-57页 |
| 3.5 W掺杂量对TiO_2结构和能级影响的理论计算 | 第57-62页 |
| 3.5.1 模型构建 | 第57-58页 |
| 3.5.2 结果及分析 | 第58-62页 |
| 4 纯Mg表面W改性TiO_2光电化学防腐蚀性能 | 第62-70页 |
| 4.1 前言 | 第62页 |
| 4.2 纯Mg表面W-TiO_2涂层的光电化学性能 | 第62-70页 |
| 4.2.1 W掺杂量对纯Mg表面TiO_2涂层光电化学性能的影响 | 第63-65页 |
| 4.2.2 热处理温度对纯Mg表面W-TiO_2涂层光电化学性能的影响 | 第65-70页 |
| 5 结论 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 附录 | 第80页 |
| A.作者在攻读学位期间发表论文 | 第80页 |
