| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 有机-无机杂化材料概述 | 第10-12页 |
| 1.1.1 有机-无机杂化材料分类及特点 | 第10-11页 |
| 1.1.2 有机-无机杂化材料的主要应用领域 | 第11-12页 |
| 1.2 POSS改性杂化材料的研究进展 | 第12-15页 |
| 1.2.1 POSS的结构与特点 | 第12-13页 |
| 1.2.2 POSS在聚合物改性中的应用 | 第13-15页 |
| 1.3 PMMA的特点及研究现状 | 第15-17页 |
| 1.3.1 PMMA的特点及应用 | 第15页 |
| 1.3.2 PMMA的改性研究 | 第15-17页 |
| 1.4 本论文研究的意义和内容 | 第17-19页 |
| 第2章 实验材料及实验方法 | 第19-28页 |
| 2.1 实验材料及仪器设备 | 第19-21页 |
| 2.1.1 主要化学试剂 | 第19-20页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第20-21页 |
| 2.2 实验方法 | 第21-25页 |
| 2.2.1 Ag纳米粒子的制备 | 第21页 |
| 2.2.2 Ag/SiO_2复合颗粒的制备 | 第21-22页 |
| 2.2.3 PMMA材料的制备 | 第22页 |
| 2.2.4 含银PMMA杂化膜的制备 | 第22页 |
| 2.2.5 含Ag/SiO_2的PMMA杂化膜的制备 | 第22-23页 |
| 2.2.6 不同单体POSS溶胶的合成 | 第23-25页 |
| 2.2.7 POSS/PMMA杂化材料的制备 | 第25页 |
| 2.2.8 POSS/HEMA/PMMA杂化材料的制备 | 第25页 |
| 2.3 性能测试及结构分析 | 第25-28页 |
| 2.3.1 透射电镜分析 | 第25页 |
| 2.3.2 紫外-可见光谱分析 | 第25-26页 |
| 2.3.3 红外光谱分析 | 第26页 |
| 2.3.4 差示扫描量热法分析 | 第26页 |
| 2.3.5 热重分析 | 第26页 |
| 2.3.6 表面电阻率测量 | 第26-27页 |
| 2.3.7 接触角测量 | 第27-28页 |
| 第3章 银改性PMMA杂化材料抗静电性能研究 | 第28-38页 |
| 3.1 引言 | 第28-29页 |
| 3.2 实验制备工艺 | 第29-31页 |
| 3.2.1 Ag纳米粒子的合成 | 第29页 |
| 3.2.2 Ag/SiO_2纳米复合颗粒的合成 | 第29页 |
| 3.2.3 PMMA合成方案探索 | 第29-31页 |
| 3.2.4 含银PMMA杂化膜的制备 | 第31页 |
| 3.2.5 含Ag/SiO_2的PMMA杂化膜的制备 | 第31页 |
| 3.3 Ag纳米粒子的表征 | 第31-34页 |
| 3.3.1 Ag纳米粒子的紫外-可见光谱表征 | 第31-32页 |
| 3.3.2 Ag纳米粒子的TEM表征 | 第32-33页 |
| 3.3.3 Ag纳米粒子常温稳定性分析 | 第33-34页 |
| 3.4 Ag/SiO_2复合粒子的表征 | 第34-35页 |
| 3.4.1 Ag/SiO_2复合粒子的TEM表征 | 第34-35页 |
| 3.4.2 Ag/SiO_2复合粒子的紫外-可见光谱表征 | 第35页 |
| 3.5 银掺杂PMMA杂化膜的抗静电性能 | 第35-37页 |
| 3.6 本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 PMMA杂化材料耐热性能及抗静电性能研究 | 第38-55页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 实验制备工艺 | 第38-41页 |
| 4.2.1 系列POSS溶胶的合成 | 第38-40页 |
| 4.2.2 POSS/PMMA杂化膜的制备 | 第40-41页 |
| 4.2.3 HEMA/POSS/PMMA杂化膜的制备 | 第41页 |
| 4.3 不同功能基团POSS溶胶体系的红外光谱表征 | 第41-46页 |
| 4.3.1 乙烯基三乙氧基硅烷溶胶体系 | 第41-42页 |
| 4.3.2 乙烯基三甲氧基硅烷溶胶体系 | 第42-44页 |
| 4.3.3 γ-氨丙基三乙氧基硅烷溶胶体系 | 第44-45页 |
| 4.3.4 POSS 70 溶胶体系 | 第45-46页 |
| 4.4 POSS/PMMA杂化膜抗静电性能 | 第46-48页 |
| 4.4.1 POSS20/PMMA杂化膜的抗静电性能 | 第46-47页 |
| 4.4.2 POSS30/PMMA杂化膜的抗静电性能 | 第47页 |
| 4.4.3 POSS50/PMMA杂化膜的抗静电性能 | 第47-48页 |
| 4.4.4 POSS70/PMMA杂化膜的抗静电性能 | 第48页 |
| 4.5 POSS对杂化材料热性能的影响 | 第48-51页 |
| 4.5.1 POSS对PMMA玻璃化转变温度的影响 | 第48-49页 |
| 4.5.2 POSS对PMMA分解温度的影响 | 第49-50页 |
| 4.5.3 POSS影响PMMA热性能的机理分析 | 第50-51页 |
| 4.6 HEMA/POSS/PMMA抗静电性能研究 | 第51-53页 |
| 4.6.1 HEMA/POSS/PMMA材料的抗静电性能 | 第51-52页 |
| 4.6.2 HEMA/POSS/PMMA材料的亲水性 | 第52页 |
| 4.6.3 HEMA抗静电机理分析 | 第52-53页 |
| 4.7 本章小结 | 第53-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
