声明与致谢 | 第6-7页 |
摘要 | 第7-10页 |
Abstract | 第10-13页 |
重要符号表 | 第14-16页 |
缩略词表 | 第16-23页 |
1 绪论 | 第23-44页 |
1.1 研究背景与意义 | 第23-24页 |
1.2 本课题的研究历史和现状 | 第24-42页 |
1.2.1 离子印迹聚合物的研究现状 | 第24-31页 |
1.2.2 镉离子污染及其处理方法 | 第31-35页 |
1.2.3 铟及其回收提取工艺 | 第35-42页 |
1.3 本文主要研究内容 | 第42-44页 |
2 实验方法和研究方法介绍及其对多羧甲基功能修饰硅胶的研究 | 第44-74页 |
2.1 引言 | 第44-45页 |
2.2 实验试剂与仪器 | 第45-46页 |
2.3 含有可聚合双键修饰硅胶和多羧甲基功能修饰硅胶的制备 | 第46-48页 |
2.4 硅胶表面Cd(Ⅱ)离子印迹聚合物的制备 | 第48-49页 |
2.5 含巯基表面Cd(Ⅱ)离子印迹聚合物的制备 | 第49-51页 |
2.6 In(Ⅲ)离子表面印迹聚合物的制备 | 第51-52页 |
2.7 表面接枝型In(Ⅲ)表面印迹聚合物的制备 | 第52-54页 |
2.8 静态吸附实验 | 第54-57页 |
2.8.1 吸附动力学 | 第54页 |
2.8.2 体系温度对吸附容量的影响 | 第54-55页 |
2.8.3 最大饱和吸附容量的测定 | 第55页 |
2.8.4 选择性吸附 | 第55-56页 |
2.8.5 pH值对金属离子吸附性能的影响 | 第56-57页 |
2.9 动态吸附实验 | 第57-60页 |
2.9.1 固相萃取 | 第57-58页 |
2.9.2 解吸与再生性能 | 第58页 |
2.9.3 共存离子的影响 | 第58-59页 |
2.9.4 印迹聚合物的实际应用 | 第59-60页 |
2.10 多羧甲基功能修饰硅胶结构表征 | 第60-63页 |
2.10.1 红外光谱分析 | 第60页 |
2.10.2 元素分析 | 第60-61页 |
2.10.3 热稳定性分析 | 第61-62页 |
2.10.4 比表面积和孔径分析 | 第62-63页 |
2.11 多羧甲基功能修饰硅胶对金属离子的吸附性能 | 第63-68页 |
2.11.1 溶液pH值对金属离子吸附容量的影响 | 第63-64页 |
2.11.2 吸附等温线 | 第64-66页 |
2.11.3 竞争吸附 | 第66-67页 |
2.11.4 动态吸附 | 第67-68页 |
2.12 金属离子的洗脱和重复性使用性能 | 第68页 |
2.13 多羧甲基功能修饰硅胶的应用 | 第68-69页 |
2.14 讨论 | 第69-73页 |
2.14.1 针对镉离子的新材料制备方法 | 第69-70页 |
2.14.2 针对铟离子的新材料制备方法 | 第70页 |
2.14.3 功能单体的单一性问题 | 第70-71页 |
2.14.4 修饰硅胶的应用 | 第71-73页 |
2.15 本章小结 | 第73-74页 |
3 硅胶表面Cd(Ⅱ)印迹聚合物对镉离子识别性能研究 | 第74-93页 |
3.1 引言 | 第74-75页 |
3.2 硅胶表面Cd(Ⅱ)印迹聚合物与Cd~(2+)的结合特性研究 | 第75-85页 |
3.2.1 溶液pH值对Cd~(2+)去除率的影响 | 第76-77页 |
3.2.2 最大饱和吸附容量 | 第77页 |
3.2.3 吸附动力学 | 第77-80页 |
3.2.4 温度对Cd~(2+)吸附容量的影响 | 第80-81页 |
3.2.5 吸附选择性 | 第81-82页 |
3.2.6 洗脱液的选择 | 第82页 |
3.2.7 富集因子 | 第82-83页 |
3.2.8 共存离子的影响 | 第83-84页 |
3.2.9 印迹聚合物的再生性能 | 第84页 |
3.2.10 硅胶表面Cd(Ⅱ)印迹聚合物对含镉废水的应用 | 第84-85页 |
3.3 样品结构表征与机理分析 | 第85-88页 |
3.3.1 红外光谱 | 第85页 |
3.3.2 氮气吸附-脱附分析 | 第85-86页 |
3.3.3 表观形貌分析 | 第86-87页 |
3.3.4 热稳定性分析 | 第87-88页 |
3.4 讨论 | 第88-91页 |
3.5 本章小结 | 第91-93页 |
4 含巯基表面Cd(Ⅱ)离子印迹聚合物对镉离子识别性能研究 | 第93-117页 |
4.1 引言 | 第93-94页 |
4.2 含巯基表面Cd(Ⅱ)离子印迹聚合物对Cd~(2+)的吸附性能 | 第94-105页 |
4.2.1 溶液pH值对Cd~(2+)吸附容量的影响 | 第94-95页 |
4.2.2 吸附动力学 | 第95-100页 |
4.2.3 吸附热力学 | 第100-102页 |
4.2.4 初始浓度对Cd~(2+)吸附容量的影响 | 第102-105页 |
4.3 含巯基表面Cd(Ⅱ)离子印迹聚合物对Cd~(2+)的识别性能 | 第105-107页 |
4.4 富集因子 | 第107页 |
4.5 共存离子的影响 | 第107-108页 |
4.6 金属离子的解吸与吸附剂的再生性能 | 第108页 |
4.7 含巯基表面Cd(Ⅱ)离子印迹聚合物对含镉废水的应用 | 第108-109页 |
4.8 样品表征及吸附过程机理分析 | 第109-112页 |
4.8.1 红外光谱分析 | 第109-110页 |
4.8.2 N_2吸附/脱附分析 | 第110页 |
4.8.3 表观形貌分析 | 第110-111页 |
4.8.4 热重分析 | 第111-112页 |
4.9 讨论 | 第112-116页 |
4.9.1 研究的意义 | 第112-113页 |
4.9.2 关于选择性分离与功能单体 | 第113-116页 |
4.10 本章小结 | 第116-117页 |
5 In(Ⅲ)离子表面印迹聚合物对铟离子识别性能研究 | 第117-136页 |
5.1 引言 | 第117-118页 |
5.2 In(Ⅲ)离子表面印迹聚合物和非印迹聚合物对In~(3+)的吸附、识别性能 | 第118-127页 |
5.2.1 溶液pH值对In~(3+)吸附容量的影响 | 第118-119页 |
5.2.2 吸附动力学 | 第119-122页 |
5.2.3 吸附等温线 | 第122-123页 |
5.2.4 吸附热力学 | 第123-125页 |
5.2.5 竞争吸附 | 第125-126页 |
5.2.6 固相萃取 | 第126-127页 |
5.3 洗脱液的选择 | 第127页 |
5.4 吸附剂的再生性能 | 第127-128页 |
5.5 In(Ⅲ)离子表面印迹聚合物对含铟废水的应用 | 第128页 |
5.6 样品的表征和吸附过程的机理 | 第128-132页 |
5.6.1 红外光谱分析 | 第128-129页 |
5.6.2 表观形貌分析 | 第129-130页 |
5.6.3 N_2吸附/脱附分析 | 第130-131页 |
5.6.4 热稳定性分析 | 第131-132页 |
5.7 讨论 | 第132-134页 |
5.8 本章小结 | 第134-136页 |
6 表面接枝型In(Ⅲ)表面印迹聚合物对铟离子的识别性能研究 | 第136-158页 |
6.1 引言 | 第136-137页 |
6.2 表面接枝型In(Ⅲ)表面印迹聚合物和非印迹聚合物对In~(3+)吸附性能 | 第137-147页 |
6.2.1 溶液pH值对In~(3+)吸附容量的影响 | 第137页 |
6.2.2 接触时间对In~(3+)吸附容量的影响 | 第137-139页 |
6.2.3 吸附动力学 | 第139-142页 |
6.2.4 不同初始浓度对In~(3+)吸附容量的影响 | 第142-143页 |
6.2.5 吸附等温线 | 第143-145页 |
6.2.6 温度对对In~(3+)吸附容量的影响 | 第145-146页 |
6.2.7 吸附热力学 | 第146-147页 |
6.3 竞争吸附 | 第147-148页 |
6.3.1 二元混合体系中干扰离子对In~(3+)的竞争吸附 | 第147-148页 |
6.3.2 多元体系中干扰离子对In~(3+)的竞争吸附 | 第148页 |
6.4 固相萃取 | 第148页 |
6.5 吸附剂的再生性能 | 第148-149页 |
6.6 表面接枝型In(Ⅲ)表面印迹聚合物对含铟废水的应用 | 第149页 |
6.7 样品的结构表征和吸附机理 | 第149-153页 |
6.7.1 红外光谱分析 | 第149-150页 |
6.7.2 表观形貌分析 | 第150-151页 |
6.7.3 N_2吸附/脱附分析 | 第151-152页 |
6.7.4 热稳定性分析 | 第152-153页 |
6.8 讨论 | 第153-155页 |
6.9 本章小结 | 第155-158页 |
7 总结与展望 | 第158-162页 |
7.1 总结 | 第158-160页 |
7.2 主要创新 | 第160页 |
7.3 展望 | 第160-162页 |
参考文献 | 第162-183页 |
期间发表论文目录 | 第183-184页 |
附录A 学科组发表的论文及已完成的学位论文清单 | 第184-191页 |
附录B 参考文献被引频次一览表 | 第191-197页 |
人名索引 | 第197-200页 |
主题词索引 | 第200页 |