摘要 | 第7-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
第1章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 石墨烯的研究进展 | 第10-14页 |
1.2.1 石墨烯的结构 | 第10-12页 |
1.2.2 石墨烯的性质 | 第12-13页 |
1.2.3 石墨烯的应用 | 第13-14页 |
1.3 石墨烯的化学修饰 | 第14-19页 |
1.3.1 石墨烯的掺杂 | 第15页 |
1.3.2 石墨烯的官能化 | 第15页 |
1.3.3 二维层状过渡金属二硫化物的研究进展 | 第15-19页 |
1.4 本论文的研究意义和内容 | 第19-20页 |
第2章理论化学方法 | 第20-24页 |
2.1 密度泛函理论 | 第20-22页 |
2.1.1 Thomas-Fermi模型 | 第20-21页 |
2.1.2 Hohenberg-Kohn定理 | 第21页 |
2.1.3 Kohn-Sham方程 | 第21-22页 |
2.1.4 交换相关能泛函 | 第22页 |
2.2 本论文所使用的软件 | 第22-24页 |
2.2.1 Dmol~3简介 | 第22页 |
2.2.2 函数 | 第22-23页 |
2.2.3 基组 | 第23-24页 |
第3章 吡啶衍生物/石墨烯纳米复合材料作为分子可调异质电催化剂用于氧还原反应 | 第24-37页 |
3.1 研究背景 | 第24-25页 |
3.2 计算方法 | 第25-26页 |
3.3 结果与讨论 | 第26-35页 |
3.3.1 吡啶衍生物/石墨烯符合材料的稳定性和性能 | 第26-28页 |
3.3.2 ORR中间体的吸附 | 第28-31页 |
3.3.3 在酸性介质中的ORR路径 | 第31-34页 |
3.3.4 在碱性介质中的ORR途径 | 第34-35页 |
3.4 本章小结 | 第35-37页 |
第4章 通过N-和P-掺杂提高单层MoS_2对氧还原反应的电催化性能 | 第37-48页 |
4.1 研究背景 | 第37-38页 |
4.2 计算方法 | 第38-39页 |
4.3 结果和讨论 | 第39-47页 |
4.3.1 N和P掺杂在单层MoS_2的几何构型和稳定性 | 第39-41页 |
4.3.2 ORR的吸附质吸附 | 第41-43页 |
4.3.3 在N掺杂单层MoS_2上的ORR | 第43-45页 |
4.3.4 在P掺杂单层MoS_2上的ORR | 第45-47页 |
4.4 本章小结 | 第47-48页 |
结论 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-60页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第60-62页 |
致谢 | 第62页 |