| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 碳化硅(SiC)简介 | 第12-14页 |
| 1.2 碳化硅粉体的制备 | 第14-15页 |
| 1.3 碳化硅与其粉体表面的特性 | 第15-16页 |
| 1.3.1 碳化硅的基本性质 | 第15-16页 |
| 1.3.2 碳化硅粉体在水相中的特性 | 第16页 |
| 1.4 粉体分散的稳定机制 | 第16-19页 |
| 1.4.1 静电稳定机制 | 第17-18页 |
| 1.4.2 空间位阻稳定机制 | 第18页 |
| 1.4.3 静电位阻稳定机制 | 第18-19页 |
| 1.5 粉体表面改性方法 | 第19-21页 |
| 1.5.1 物理改性方法 | 第19-20页 |
| 1.5.2 化学改性方法 | 第20-21页 |
| 1.6 国内外研究进展 | 第21-22页 |
| 1.7 选题意义与研究内容 | 第22-24页 |
| 2 SiC粉体表面微观差异性对其浆料流变性产生的影响 | 第24-46页 |
| 2.1 引言 | 第24页 |
| 2.2 实验原料及仪器 | 第24-26页 |
| 2.3 实验方法 | 第26页 |
| 2.3.1 碳化硅悬浮液的制备 | 第26页 |
| 2.3.2 盐酸溶液除粉体中杂质 | 第26页 |
| 2.3.3 结合水实验 | 第26页 |
| 2.4 性能表征 | 第26-29页 |
| 2.4.1 分子结构分析(FTIR) | 第26-27页 |
| 2.4.2 颗粒Zeta电位测试 | 第27页 |
| 2.4.3 粒度分布分析 | 第27页 |
| 2.4.4 流变性能测试 | 第27-28页 |
| 2.4.5 浆料稳定性分析 | 第28-29页 |
| 2.4.6 浆料分散性分析 | 第29页 |
| 2.5 结果与讨论 | 第29-45页 |
| 2.5.1 粉体表面官能团分析 | 第29-30页 |
| 2.5.2 Zeta电位分析 | 第30-33页 |
| 2.5.3 粉体粒度分布 | 第33-36页 |
| 2.5.4 浆料流变性能 | 第36-41页 |
| 2.5.5 结合水分析 | 第41-42页 |
| 2.5.6 浆料稳定性分析 | 第42-43页 |
| 2.5.7 浆料的分散性 | 第43-45页 |
| 2.6 小结 | 第45-46页 |
| 3 SiC粉体表面杂质离子去除工艺条件研究 | 第46-56页 |
| 3.1 引言 | 第46页 |
| 3.2 实验原料及试剂 | 第46-47页 |
| 3.3 实验方法 | 第47页 |
| 3.4 性能表征 | 第47-48页 |
| 3.4.1 颗粒Zeta电位测试 | 第47页 |
| 3.4.2 粒度分布 | 第47-48页 |
| 3.4.3 流变性能测试 | 第48页 |
| 3.4.4 浆料稳定性分析 | 第48页 |
| 3.4.5 浆料分散性分析 | 第48页 |
| 3.5 结果与讨论 | 第48-54页 |
| 3.5.1 Zeta电位分析 | 第48-49页 |
| 3.5.2 粉体粒度分布 | 第49-50页 |
| 3.5.3 浆料流变性能 | 第50-51页 |
| 3.5.4 浆料的分散性 | 第51-53页 |
| 3.5.5 对浆料稳定性的影响 | 第53-54页 |
| 3.6 小结 | 第54-56页 |
| 4 小分子有机物(乙酸)对SiC粉体表面改性研究 | 第56-74页 |
| 4.1 引言 | 第56页 |
| 4.2 实验原料及仪器 | 第56-57页 |
| 4.3 实验方法 | 第57-58页 |
| 4.3.1 预处理实验 | 第57页 |
| 4.3.2 不同条件乙酸改性实验 | 第57-58页 |
| 4.4 性能表征 | 第58-59页 |
| 4.4.1 分子结构分析(FTIR) | 第58页 |
| 4.4.2 颗粒Zeta电位测试 | 第58页 |
| 4.4.3 粒度分布 | 第58页 |
| 4.4.4 流变性能测试 | 第58页 |
| 4.4.5 浆料稳定性分析 | 第58-59页 |
| 4.4.6 浆料分散性分析 | 第59页 |
| 4.5 结果与讨论 | 第59-72页 |
| 4.5.1 SiC粉体表面官能团分析 | 第59-60页 |
| 4.5.2 Zeta电位分析 | 第60-62页 |
| 4.5.3 粉体粒度分布 | 第62-64页 |
| 4.5.4 浆料流变性能 | 第64-68页 |
| 4.5.5 浆料的分散性 | 第68-71页 |
| 4.5.6 浆料稳定性分析 | 第71-72页 |
| 4.6 小结 | 第72-74页 |
| 5 SiC表面氧化物对其浆料流变性能的影响 | 第74-84页 |
| 5.1 引言 | 第74页 |
| 5.2 实验原料及仪器 | 第74-75页 |
| 5.3 实验方法 | 第75页 |
| 5.3.1 预处理实验 | 第75页 |
| 5.3.2 去除表面氧化物实验 | 第75页 |
| 5.4 性能表征 | 第75-77页 |
| 5.4.1 分子结构分析(FTIR) | 第75页 |
| 5.4.2 颗粒Zeta电位测试 | 第75-76页 |
| 5.4.3 粒度分布 | 第76页 |
| 5.4.4 流变性能测试 | 第76页 |
| 5.4.5 浆料稳定性分析 | 第76页 |
| 5.4.6 浆料分散性分析 | 第76页 |
| 5.4.7 碳化硅形貌分析(TEM) | 第76-77页 |
| 5.5 结果与讨论 | 第77-82页 |
| 5.5.1 SiC粉体表面官能团分析 | 第77页 |
| 5.5.2 Zeta电位分析 | 第77-78页 |
| 5.5.3 粉体粒度分布 | 第78-79页 |
| 5.5.4 浆料流变性能 | 第79-80页 |
| 5.5.5 浆料稳定性分析 | 第80-81页 |
| 5.5.6 浆料的分散性 | 第81-82页 |
| 5.5.7 粉体形貌表征 | 第82页 |
| 5.6 小结 | 第82-84页 |
| 6 腐植酸钠对SiC粉体表面改性的可能性 | 第84-96页 |
| 6.1 引言 | 第84-85页 |
| 6.2 实验原料及仪器 | 第85页 |
| 6.3 实验方法 | 第85-86页 |
| 6.3.1 预处理实验 | 第85页 |
| 6.3.2 腐植酸钠水热处理 | 第85-86页 |
| 6.4 性能表征 | 第86-87页 |
| 6.4.1 分子结构分析(FTIR) | 第86页 |
| 6.4.2 颗粒Zeta电位测试 | 第86页 |
| 6.4.3 粒度分布 | 第86页 |
| 6.4.4 水体中有机物总含量分析(TOC) | 第86页 |
| 6.4.5 流变性能测试 | 第86-87页 |
| 6.4.6 浆料稳定性分析 | 第87页 |
| 6.4.7 浆料分散性分析 | 第87页 |
| 6.4.8 碳化硅形貌分析(TEM) | 第87页 |
| 6.5 结果与讨论 | 第87-95页 |
| 6.5.1 SiC粉体表面官能团分析 | 第87-88页 |
| 6.5.2 Zeta电位分析 | 第88-89页 |
| 6.5.3 粉体粒度分布 | 第89页 |
| 6.5.4 腐植酸钠附着牢固程度分析 | 第89-92页 |
| 6.5.5 浆料流变性能 | 第92-93页 |
| 6.5.6 浆料稳定性分析 | 第93页 |
| 6.5.7 浆料的分散性 | 第93-94页 |
| 6.5.8 粉体形貌表征 | 第94-95页 |
| 6.6 小结 | 第95-96页 |
| 7 TMAH表面吸附对SiC粉体及浆料流变性能研究 | 第96-104页 |
| 7.1 引言 | 第96页 |
| 7.2 实验原料及仪器 | 第96-97页 |
| 7.3 实验方法 | 第97页 |
| 7.3.1 预处理实验 | 第97页 |
| 7.3.2 TMAH水热处理 | 第97页 |
| 7.4 性能表征 | 第97-98页 |
| 7.4.1 分子结构分析(FTIR) | 第97页 |
| 7.4.2 颗粒Zeta电位测试 | 第97-98页 |
| 7.4.3 粒度分布 | 第98页 |
| 7.4.4 流变性能测试 | 第98页 |
| 7.4.5 浆料稳定性分析 | 第98页 |
| 7.4.6 浆料分散性分析 | 第98页 |
| 7.5 结果与讨论 | 第98-102页 |
| 7.5.1 SiC粉体表面官能团分析 | 第98-99页 |
| 7.5.2 Zeta电位分析 | 第99-100页 |
| 7.5.3 粉体粒度分布 | 第100页 |
| 7.5.4 浆料流变性能 | 第100-101页 |
| 7.5.5 浆料稳定性分析 | 第101-102页 |
| 7.5.6 浆料的分散性 | 第102页 |
| 7.6 小结 | 第102-104页 |
| 8 结论与展望 | 第104-106页 |
| 8.1 结论 | 第104-105页 |
| 8.2 展望 | 第105-106页 |
| 参考文献 | 第106-114页 |
| 致谢 | 第114-116页 |
| 作者简介 | 第116-118页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第118-119页 |