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光纤SPR动态范围调节与多通道技术研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第1章 绪论第10-16页
    1.1 表面等离子体共振传感技术第10-13页
        1.1.1 表面等离子体共振传感技术概述第10页
        1.1.2 表面等离子体共振传感技术分类第10-13页
    1.2 光纤表面等离子体共振传感器简介第13-16页
        1.2.1 光纤表面等离子体共振传感器的研究背景第13-14页
        1.2.2 光纤表面等离子体共振传感器的研究现状与发展前景第14-16页
第2章 表面等离子体共振传感的基本原理第16-29页
    2.1 表面等离子体共振原理第16-24页
        2.1.1 表面等离子体波(SPW)第16-21页
        2.1.2 表面等离子体共振产生的条件第21-24页
    2.2 光纤表面等离子体共振传感器第24-28页
        2.2.1 表面等离子体波传感器的检测原理第24-26页
        2.2.2 光纤表面等离子体共振传感器的实现方式第26-28页
    2.3 本章小结第28-29页
第3章 膜厚对动态范围的影响与分布式研究第29-39页
    3.1 金膜的厚度标定与定量控制第29-33页
        3.1.1 实验装置及操作第29-32页
        3.1.2 金膜厚度的标定第32-33页
    3.2 改进空间SPR系统与膜厚优化第33-34页
    3.3 透射式光纤SPR传感器的膜厚优化第34-36页
    3.4 基于膜厚调节的级联分布式光纤SPR传感器第36-38页
        3.4.1 单级光纤SPR传感器膜厚调节第36-37页
        3.4.2 基于膜厚调节的级联分布式光纤SPR传感器第37-38页
    3.5 本章小结第38-39页
第4章 侧面倾斜多模光纤分布式SPR第39-49页
    4.1 侧面倾斜多模光纤SPR微传感器结构第39页
    4.2 光纤探针的制作第39-41页
        4.2.1 光纤研磨第39-40页
        4.2.2 光纤焊接第40-41页
        4.2.3 光纤镀膜第41页
    4.3 研磨角度对SPR动态范围和灵敏度的影响第41-46页
        4.3.1 斜磨结构不同研磨角度的研究第41-43页
        4.3.2 圆台结构与斜磨结构共振谷深的对比第43-46页
    4.4 微侧抛分布式SPR第46-48页
        4.4.1 腐蚀结构的阶跃多模光纤SPR第46页
        4.4.2 微侧抛结构的分布式SPR第46-48页
    4.5 本章小结第48-49页
第5章 光纤SPR波分时分复用技术联合第49-58页
    5.1 光纤SPR波分复用与时分复用技术介绍第49-50页
    5.2 光纤SPR波分复用技术的实现第50-52页
    5.3 光纤SPR时分复用与波分复用联合技术第52-53页
    5.4 探针制作与实验第53-54页
    5.5 实验结果与讨论第54-57页
    5.6 本章小结第57-58页
结论第58-60页
参考文献第60-65页
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果第65-66页
致谢第66页

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