飞秒激光氮重掺硅材料的性质及其应用
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第14-28页 |
| 1.1 脉冲激光重掺杂技术 | 第14-15页 |
| 1.2 脉冲激光与硅材料的相互作用过程 | 第15-18页 |
| 1.2.1 纳秒激光与硅片的相互作用 | 第16页 |
| 1.2.2 皮秒激光与硅片的相互作用 | 第16-17页 |
| 1.2.3 飞秒激光与硅片的相互作用 | 第17-18页 |
| 1.3 飞秒激光重掺杂硅的性质及应用 | 第18-21页 |
| 1.4 氮重掺硅材料 | 第21-23页 |
| 参考文献 | 第23-28页 |
| 第二章 激光重掺杂材料的制备与测量 | 第28-36页 |
| 2.1 引言 | 第28页 |
| 2.2 样品的准备 | 第28-29页 |
| 2.3 飞秒激光掺杂系统 | 第29-31页 |
| 2.3.1 飞秒激光系统 | 第29页 |
| 2.3.2 掺杂系统 | 第29-31页 |
| 2.4 飞秒激光氮重掺材料制备流程 | 第31-32页 |
| 2.5 样品的测量装置 | 第32-35页 |
| 2.5.1 样品的微结构测量 | 第32页 |
| 2.5.2 样品的光学性质测量 | 第32-35页 |
| 参考文献 | 第35-36页 |
| 第三章 氮重掺硅材料的结构特性研究 | 第36-58页 |
| 3.1 引言 | 第36-37页 |
| 3.2 三氟化氮气体环境下制备得到的氮重掺硅材料 | 第37-49页 |
| 3.2.1 微观形貌研究 | 第37-40页 |
| 3.2.2 氮原子的掺杂浓度及分布情况 | 第40-43页 |
| 3.2.3 材料表面的结构特征研究 | 第43-48页 |
| 3.2.4 氮在掺杂层中的原子结构研究 | 第48-49页 |
| 3.3 氮气环境下制备得到的氮重掺硅材料 | 第49-53页 |
| 3.3.1 微观形貌研究 | 第49-50页 |
| 3.3.2 氮原子的掺杂浓度及分布情况 | 第50-52页 |
| 3.3.3 材料表面的结构特征研究 | 第52-53页 |
| 3.3.4 氮在掺杂层中的原子结构研究 | 第53页 |
| 3.4 小结 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 第四章 氮重掺硅材料的光学特性研究 | 第58-82页 |
| 4.1 引言 | 第58-59页 |
| 4.2 三氟化氮气体中氮重掺硅材料的光学特性 | 第59-69页 |
| 4.2.1 可见-近红外波段的光学特性 | 第59-64页 |
| 4.2.2 中红外波段的光学特性 | 第64-69页 |
| 4.3 氮气环境中氮重掺硅材料的光学特性 | 第69-77页 |
| 4.3.1 可见-近红外波段的光学特性 | 第69-74页 |
| 4.3.2 中红外波段的光学特性 | 第74-77页 |
| 4.4 小结 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-82页 |
| 第五章 光电器件应用方面的初步探索 | 第82-99页 |
| 5.1 引言 | 第82页 |
| 5.2 光电器件应用的可行性分析 | 第82-85页 |
| 5.3 原型器件的制备 | 第85-89页 |
| 5.3.1 样品的选择 | 第85-87页 |
| 5.3.2 制备流程 | 第87-89页 |
| 5.4 电学方面的测试 | 第89-96页 |
| 5.4.1 Ⅰ-Ⅴ测试 | 第89-94页 |
| 5.4.2 光谱响应测试 | 第94-96页 |
| 5.5 小结 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-99页 |
| 第六章 结论和展望 | 第99-102页 |
| 6.1 论文工作总结 | 第99-100页 |
| 6.2 以后进一步研究的工作 | 第100-102页 |
| 攻读博士期间发表的论文 | 第102-103页 |
| 致谢 | 第103-105页 |
