| 中文摘要 | 第3-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第11-33页 |
| 1.1 磁流变材料与磁流变效应 | 第12-14页 |
| 1.2 磁流变液的性能参数 | 第14-17页 |
| 1.3 磁流变材料的应用领域 | 第17-22页 |
| 1.3.1 磁流变液的应用 | 第18-21页 |
| 1.3.2 其他磁流变材料的应用 | 第21-22页 |
| 1.4 磁流变液的沉降问题 | 第22-27页 |
| 1.4.1 磁流变液的沉降体系构成 | 第22-23页 |
| 1.4.2 磁流变液沉降稳定性的现有监测方法 | 第23-24页 |
| 1.4.3 改善MRF沉降稳定性的现有途径及不足 | 第24-27页 |
| 1.5 基于高黏度线性聚硅氧烷的磁流变液（HVLP MRF） | 第27-30页 |
| 1.5.1 线性聚硅氧烷简介 | 第27-28页 |
| 1.5.2 HVLP作为被动缓冲材料 | 第28-29页 |
| 1.5.3 HVLP的高分子螺旋与团聚结构 | 第29-30页 |
| 1.6 本文的研究意义与内容结构安排 | 第30-33页 |
| 1.6.1 本文的研究意义 | 第30-31页 |
| 1.6.2 本文的内容结构安排 | 第31-33页 |
| 2 HVLP MRF的制备与若干非流变特性表征 | 第33-45页 |
| 2.1 引言 | 第33页 |
| 2.2 HVLP与HVLP MRF的制备 | 第33-38页 |
| 2.2.1 原材料 | 第33-34页 |
| 2.2.2 HVLP的制备 | 第34-35页 |
| 2.2.3 HVLP MRF的制备 | 第35-38页 |
| 2.2.4 传统磁流变液的制备 | 第38页 |
| 2.3 HVLP与HVLP MRF的红外光谱分析 | 第38-39页 |
| 2.4 HVLP MRF微观结构表征 | 第39-41页 |
| 2.5 HVLP MRF的磁化特性 | 第41-42页 |
| 2.6 HVLP与HVLP MRF的体积压缩性 | 第42-43页 |
| 2.7 本章小结 | 第43-45页 |
| 3 HVLP MRF在低剪切率下的流变特性研究 | 第45-79页 |
| 3.1 引言 | 第45-48页 |
| 3.1.1 磁流变液的本构模型 | 第45-48页 |
| 3.1.2 本章主要内容 | 第48页 |
| 3.2 实验系统及实验方法 | 第48-52页 |
| 3.2.1 实验系统 | 第48-51页 |
| 3.2.2 实验方法 | 第51-52页 |
| 3.3 HVLP的流变特性 | 第52-55页 |
| 3.3.1 HVLP的零剪切黏度与剪切稀化行为 | 第52-53页 |
| 3.3.2 HVLP MRF高分子结构在动态剪切下的形变机理 | 第53-55页 |
| 3.4 HVLP MRF磁流变效应的现象学研究与微观机理 | 第55-57页 |
| 3.4.1 HVLP MRF磁流变效应的现象学研究 | 第55-56页 |
| 3.4.2 HVLP MRF磁流变效应的微观机理 | 第56-57页 |
| 3.5 羰基铁粉浓度的影响 | 第57-65页 |
| 3.5.1 流动曲线受颗粒浓度的影响 | 第57-60页 |
| 3.5.2 表观黏度受颗粒浓度的影响 | 第60-61页 |
| 3.5.3 HVLP MRF的本构模型——H-B-BP模型 | 第61-62页 |
| 3.5.4 静态屈服应力与动态屈服应力受颗粒浓度的影响 | 第62-63页 |
| 3.5.5 磁控动态范围受颗粒浓度的影响 | 第63-65页 |
| 3.6 HVLP载体液黏度的影响 | 第65-68页 |
| 3.6.1 流动曲线受HVLP黏度的影响 | 第65页 |
| 3.6.2 表观黏度受HVLP黏度的影响 | 第65-66页 |
| 3.6.3 静态屈服应力与动态屈服应力受HVLP黏度的影响 | 第66-67页 |
| 3.6.4 磁控动态范围受HVLP黏度的影响 | 第67-68页 |
| 3.7 温度的影响及与LORD商业MRF的对照研究 | 第68-75页 |
| 3.7.1 流动曲线受温度的影响 | 第68-69页 |
| 3.7.2 表观黏度受温度的影响 | 第69页 |
| 3.7.3 静态屈服应力与动态屈服应力受温度的影响 | 第69-73页 |
| 3.7.4 磁控动态范围受温度的影响 | 第73-74页 |
| 3.7.5 HVLP MRF与商业Lord MRF的磁控屈服应力对比 | 第74-75页 |
| 3.8 HVLP MRF特殊流变行为机理分析 | 第75-77页 |
| 3.9 本章小结 | 第77-79页 |
| 4 HVLP MRF在高剪切率下的流变特性研究 | 第79-93页 |
| 4.1 引言 | 第79-80页 |
| 4.2 实验系统及实验方法 | 第80-84页 |
| 4.2.1 剪切式同心圆筒高剪切旋转流变仪 | 第80-81页 |
| 4.2.2 高剪切流变仪磁路分析 | 第81-83页 |
| 4.2.3 实验方法 | 第83-84页 |
| 4.3 结果与分析 | 第84-91页 |
| 4.3.1 高、低剪切率下流动曲线受颗粒浓度的影响及其比较 | 第84-87页 |
| 4.3.2 黏度曲线受颗粒浓度的影响 | 第87-88页 |
| 4.3.3 屈服应力-磁场强度关系 | 第88-89页 |
| 4.3.4 表观黏度-磁场强度关系 | 第89-90页 |
| 4.3.5 磁控动态范围受颗粒浓度的影响 | 第90-91页 |
| 4.4 本章小结 | 第91-93页 |
| 5 磁流变液沉降特性理论与实验研究 | 第93-115页 |
| 5.1 引言 | 第93-96页 |
| 5.1.1 Kynch沉降理论简介 | 第94-95页 |
| 5.1.2 磁流变液沉降特性研究现状 | 第95页 |
| 5.1.3 本章主要内容 | 第95-96页 |
| 5.2 磁流变液沉降特性实验研究 | 第96-104页 |
| 5.2.1 竖直轴电感监测系统（VAIMS） | 第97页 |
| 5.2.2 实验设计与实验过程 | 第97-98页 |
| 5.2.3 浓度-电感关系 | 第98-99页 |
| 5.2.4 泥线目视观测结果 | 第99-100页 |
| 5.2.5 电感-高度-时间关系 | 第100页 |
| 5.2.6 浓度-高度-时间关系 | 第100-101页 |
| 5.2.7 VAIMS法获得沉降区分界线 | 第101-103页 |
| 5.2.8 沉降区-时间演变关系 | 第103-104页 |
| 5.3 基于KYNCH理论的磁流变液沉降理论研究 | 第104-111页 |
| 5.3.1 颗粒浓度传播速度（CPV）的推导 | 第104-106页 |
| 5.3.2 沉降速率模型的分析及选取 | 第106-107页 |
| 5.3.3 沉降速率-高度-时间关系 | 第107-108页 |
| 5.3.4 CPV-浓度曲线 | 第108-109页 |
| 5.3.5 CPV-高度-时间关系 | 第109-111页 |
| 5.3.6 CPV理论预测与实验结果对比与分析 | 第111页 |
| 5.4 固体流量分析 | 第111-113页 |
| 5.5 本章小结 | 第113-115页 |
| 6 HVLP MRF长期沉降稳定性研究 | 第115-129页 |
| 6.1 引言 | 第115页 |
| 6.2 实验设计与实验过程 | 第115-116页 |
| 6.3 浓度-电感关系 | 第116-117页 |
| 6.4 泥线目视观测结果 | 第117-119页 |
| 6.5 浓度-高度-时间关系 | 第119-121页 |
| 6.6 VAIMS法获得泥线沉降位移 | 第121-122页 |
| 6.7 相对浓度变化-高度-时间关系 | 第122-125页 |
| 6.8 HVLP载体液黏度对HVLP MRF沉降稳定性的影响规律 | 第125页 |
| 6.9 颗粒浓度对HVLP MRF沉降稳定性的影响规律 | 第125-127页 |
| 6.10 HVLP MRF长期高沉降稳定性的机理分析 | 第127页 |
| 6.11 本章小结 | 第127-129页 |
| 7 总结与展望 | 第129-135页 |
| 7.1 本文工作总结 | 第129-131页 |
| 7.2 论文的创新之处 | 第131-132页 |
| 7.3 论文的不足之处及研究展望 | 第132-135页 |
| 7.3.1 不足之处 | 第132页 |
| 7.3.2 研究展望 | 第132-135页 |
| 致谢 | 第135-137页 |
| 参考文献 | 第137-149页 |
| 附录 | 第149-151页 |
| A. 作者在攻读博士学位期间发表的论文目录 | 第149-150页 |
| B. 作者在攻读博士学位期间待发表的论文目录 | 第150页 |
| C. 作者在攻读博士学位期间申请的专利 | 第150页 |
| D. 作者在攻读博士学位期间参与的科研项目 | 第150-151页 |
| E. 作者在攻读博士学位期间参加的学术会议 | 第151页 |
| F. 作者在攻读博士学位期间的获奖情况 | 第151页 |
