| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 磁存储技术发展现状 | 第10-12页 |
| 1.3 磁头磁盘间润滑层的研究现状 | 第12-16页 |
| 1.3.1 润滑层的国外研究现状 | 第13-14页 |
| 1.3.2 润滑层的国内研究现状 | 第14-16页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 磁头磁盘界面薄膜动力学理论的建立 | 第17-30页 |
| 2.1 考虑气体稀薄效应的修正雷诺方程 | 第17-20页 |
| 2.2 旋转模型中润滑膜膜厚变化方程的推导 | 第20-27页 |
| 2.3 热源下润滑膜损耗方程的推导 | 第27-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 旋转模型中润滑膜流动及影响因素分析 | 第30-57页 |
| 3.1 空气动压力求解及影响因素分析 | 第30-41页 |
| 3.1.1 空气动压力的求解 | 第30-33页 |
| 3.1.2 磁头飞行姿态对空气动压力的影响 | 第33-37页 |
| 3.1.3 磁头磁盘相对位置对空气动压力的影响 | 第37-38页 |
| 3.1.4 空气动压力分布均匀性的表征参数 | 第38-41页 |
| 3.2 空气动压力作用下润滑膜的流动及影响因素分析 | 第41-56页 |
| 3.2.1 润滑膜流动的求解 | 第41-46页 |
| 3.2.2 磁头飞行姿态对润滑膜流动的影响 | 第46-50页 |
| 3.2.3 磁头磁盘相对位置对空气动压力的影响 | 第50-52页 |
| 3.2.4 磁头尺寸对膜厚变化的影响分析 | 第52-56页 |
| 3.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 第4章 HAMR技术中膜厚损耗及影响因素分析 | 第57-70页 |
| 4.1 基于旋转模型的润滑剂损耗求解 | 第57-62页 |
| 4.2 空气动压和热源共同作用下膜厚变化分析 | 第62-65页 |
| 4.3 工作参数对润滑膜损耗的影响分析 | 第65-69页 |
| 4.3.1 激光功率的影响 | 第65-66页 |
| 4.3.2 光斑大小的影响 | 第66-67页 |
| 4.3.3 润滑膜分子质量的影响 | 第67-68页 |
| 4.3.4 润滑膜初始膜厚的影响 | 第68-69页 |
| 4.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 第5章 膜厚变化对空气动压力的影响分析 | 第70-80页 |
| 5.1 考虑膜厚变化的空气动压求解 | 第70-73页 |
| 5.1.1 模型建立 | 第70-72页 |
| 5.1.2 考虑膜厚变化的空气动压力求解 | 第72-73页 |
| 5.2 磁头姿态对磁头受力变化量的影响分析 | 第73-75页 |
| 5.3 飞行高度对磁头受力变化量的影响分析 | 第75-77页 |
| 5.4 润滑膜表面的简化模型 | 第77-79页 |
| 5.5 本章小结 | 第79-80页 |
| 结论 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88页 |