| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第16-34页 |
| 1.1 引言 | 第16-17页 |
| 1.2 DLC膜分类 | 第17-18页 |
| 1.3 DLC研究现状 | 第18-25页 |
| 1.3.1 DLC膜的失效 | 第18页 |
| 1.3.2 提高膜基结合力措施 | 第18-24页 |
| 1.3.3 DLC厚膜制备工艺 | 第24-25页 |
| 1.4 空心阴极放电技术 | 第25-32页 |
| 1.4.1 空心阴极放电机理 | 第25-28页 |
| 1.4.2 空心阴极放电沉积DLC膜 | 第28-30页 |
| 1.4.3 笼形空心阴极沉积DLC膜 | 第30-32页 |
| 1.5 本文的研究内容 | 第32-34页 |
| 第2章 试验材料及研究方法 | 第34-41页 |
| 2.1 试验材料及预处理 | 第34-35页 |
| 2.2 偏压调控笼形空心阴极沉积技术及实验设备 | 第35页 |
| 2.3 放电特性和光谱测试 | 第35-37页 |
| 2.3.1 等离子体放电特性测试 | 第35-36页 |
| 2.3.2 等离子体发射光谱诊断 | 第36-37页 |
| 2.4 显微结构测试 | 第37-38页 |
| 2.4.1 原子力显微镜 | 第37页 |
| 2.4.2 光学显微镜 | 第37-38页 |
| 2.4.3 扫描电子显微镜 | 第38页 |
| 2.4.4 拉曼光谱测试 | 第38页 |
| 2.4.5 X-射线光电子能谱分析 | 第38页 |
| 2.4.6 X-射线衍射分析 | 第38页 |
| 2.5 力学性能测试 | 第38-39页 |
| 2.5.1 纳米硬度测量 | 第38-39页 |
| 2.5.2 显微硬度测量 | 第39页 |
| 2.6 膜基结合力测试 | 第39页 |
| 2.6.1 洛氏压痕测试 | 第39页 |
| 2.6.2 划痕测试 | 第39页 |
| 2.7 摩擦磨损性能评价 | 第39页 |
| 2.8 氧化性能测试 | 第39-40页 |
| 2.9 腐蚀性能测试 | 第40-41页 |
| 第3章 笼形空心阴极放电特性 | 第41-52页 |
| 3.1 辉光引燃特性 | 第41-44页 |
| 3.1.1 氩气辉光放电 | 第41-43页 |
| 3.1.2 乙炔辉光放电 | 第43-44页 |
| 3.2 放电伏安特性测试 | 第44-48页 |
| 3.2.1 氩气辉光放电 | 第45-46页 |
| 3.2.2 乙炔辉光放电 | 第46页 |
| 3.2.3 单个脉冲放电 | 第46-48页 |
| 3.3 笼网表面状态对放电的影响 | 第48-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 不同气氛下气压和偏压对放电特性的影响 | 第52-75页 |
| 4.1 氩气笼形空心阴极放电 | 第52-60页 |
| 4.1.1 工作气压的影响 | 第52-54页 |
| 4.1.2 附加偏压的影响 | 第54-57页 |
| 4.1.3 氩气放电光谱测试 | 第57-60页 |
| 4.2 乙炔笼形空心阴极放电 | 第60-67页 |
| 4.2.1 工作气压的影响 | 第60-64页 |
| 4.2.2 附加偏压的影响 | 第64-65页 |
| 4.2.3 乙炔放电光谱测试 | 第65-67页 |
| 4.3 Ar和C_2H_2混合气体笼形空心阴极放电 | 第67-72页 |
| 4.3.1 气体比例变化对放电特性的影响 | 第67-68页 |
| 4.3.2 附加偏压对混合气体放电特性的影响 | 第68-70页 |
| 4.3.3 气体比例变化对光谱特性的影响 | 第70-72页 |
| 4.4 放电机制 | 第72-73页 |
| 4.5 本章小结 | 第73-75页 |
| 第5章 偏压对基体表面结构及膜基结合力的影响 | 第75-89页 |
| 5.1 不锈钢基体偏压刻蚀处理 | 第75-81页 |
| 5.1.1 表面相结构及形貌 | 第75-80页 |
| 5.1.2 膜基结合力测试 | 第80-81页 |
| 5.2 不锈钢氮化层偏压刻蚀处理 | 第81-87页 |
| 5.2.1 不锈钢氮化及Ar~+和H~+离子刻蚀 | 第81-85页 |
| 5.2.2 膜基结合力测试 | 第85-87页 |
| 5.3 提高膜基结合力机制 | 第87-88页 |
| 5.4 本章小结 | 第88-89页 |
| 第6章 偏压对Si-DLC膜结构和性能的影响 | 第89-107页 |
| 6.1 偏压调控Si-DLC膜验证实验 | 第89-90页 |
| 6.2 偏压调控Si-DLC膜工艺方案 | 第90-91页 |
| 6.3 Si-DLC膜显微结构及沉积速率 | 第91-101页 |
| 6.3.1 截面形貌及沉积速率 | 第91-95页 |
| 6.3.2 表面形貌及表面粗糙度 | 第95-96页 |
| 6.3.3 膜层结构和化学态分析 | 第96-101页 |
| 6.4 Si-DLC膜机械性能表征 | 第101-105页 |
| 6.4.1 力学性能测试分析 | 第101-102页 |
| 6.4.2 结合力测试分析 | 第102-103页 |
| 6.4.3 摩擦磨损测试分析 | 第103-105页 |
| 6.5 本章小结 | 第105-107页 |
| 第7章 偏压调控Si-DLC膜制备及性能研究 | 第107-130页 |
| 7.1 Si-DLC膜层设计及制备工艺 | 第107-108页 |
| 7.2 Si-DLC膜微观结构和表面粗糙度 | 第108-111页 |
| 7.3 Si-DLC膜机械性能表征 | 第111-120页 |
| 7.3.1 显微硬度测试分析 | 第111页 |
| 7.3.2 膜基结合力测试分析 | 第111-115页 |
| 7.3.3 厚度对膜层韧性的影响 | 第115-118页 |
| 7.3.4 摩擦磨损性能分析 | 第118-120页 |
| 7.4 Si-DLC膜耐氧化性和耐腐蚀性 | 第120-125页 |
| 7.4.1 耐氧化性分析 | 第120-122页 |
| 7.4.2 耐腐蚀性分析 | 第122-125页 |
| 7.5 高结合力Si-DLC膜制备 | 第125-127页 |
| 7.6 152μmSi-DLC膜制备及应用实例 | 第127-128页 |
| 7.7 本章小结 | 第128-130页 |
| 结论 | 第130-133页 |
| 参考文献 | 第133-145页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文及其它成果 | 第145-147页 |
| 致谢 | 第147-148页 |
| 个人简历 | 第148-149页 |
| 附件 | 第149页 |