| 摘要 | 第2-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 石墨烯的基本性能 | 第8-10页 |
| 1.2.1 电学性能 | 第8-9页 |
| 1.2.2 热学性能 | 第9页 |
| 1.2.3 力学性能 | 第9页 |
| 1.2.4 磁学性能 | 第9-10页 |
| 1.3 石墨烯的应用前景 | 第10-11页 |
| 1.4 石墨烯的制备方法 | 第11-15页 |
| 1.4.1 化学合成方法 | 第11-12页 |
| 1.4.2 外延生长法 | 第12页 |
| 1.4.3 化学气相沉积法 | 第12页 |
| 1.4.4 微机械剥离法 | 第12-13页 |
| 1.4.5 石墨氧化-还原法 | 第13-14页 |
| 1.4.6 其他方法 | 第14-15页 |
| 1.5 石墨烯薄膜的制备 | 第15-18页 |
| 1.5.1 旋涂法 | 第15页 |
| 1.5.2 喷涂法 | 第15-16页 |
| 1.5.3 抽滤沉积法 | 第16页 |
| 1.5.4 层层自组装 | 第16-17页 |
| 1.5.5 物理转移方法 | 第17-18页 |
| 1.5.6 其他方法 | 第18页 |
| 1.6 碳纳米纤维（CNF）的基本性能 | 第18-20页 |
| 1.7 本课题的研究目的和意义 | 第20页 |
| 1.8 本课题研究的主要内容 | 第20-22页 |
| 第二章 石墨烯薄膜的制备及基本性能研究 | 第22-34页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 石墨烯薄膜的制备 | 第22-30页 |
| 2.2.1 氧化石墨烯溶液的制备 | 第22-26页 |
| 2.2.2 氧化石墨烯薄膜的制备 | 第26-28页 |
| 2.2.3 氧化石墨烯薄膜的还原 | 第28-30页 |
| 2.3 石墨烯薄膜的基本表征 | 第30-32页 |
| 2.3.1 片层状态（AFM） | 第30-31页 |
| 2.3.2 还原程度（XRD） | 第31-32页 |
| 2.3.3 表面及截面形态（SEM） | 第32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-34页 |
| 第三章 CNF/石墨烯薄膜的制备及表征 | 第34-40页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 CNF/石墨烯薄膜的制备 | 第34-36页 |
| 3.2.1 碳纳米纤维（CNF） | 第34-35页 |
| 3.2.2 CNF/石墨烯薄膜的制备 | 第35-36页 |
| 3.3 CNF/石墨烯薄膜的基本表征 | 第36-39页 |
| 3.3.1 薄膜的表面形态（SEM） | 第36-37页 |
| 3.3.2 改性薄膜的电学性能 | 第37-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 不同比例的CNF/石墨烯薄膜的性能对比 | 第40-46页 |
| 4.1 实验部分 | 第40页 |
| 4.2 电学性能对比 | 第40-42页 |
| 4.3 力学性能对比 | 第42-43页 |
| 4.4 薄膜表面形态对比（SEM） | 第43-45页 |
| 4.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 加载CNF/石墨烯薄膜对天线阻抗的影响及分析 | 第46-54页 |
| 5.1 天线阻抗以及阻抗匹配 | 第46-47页 |
| 5.1.1 阻抗以及阻抗匹配的定义 | 第46页 |
| 5.1.2 阻抗匹配的常用方法 | 第46-47页 |
| 5.2 CNF/石墨烯薄膜加载测试以及结果分析 | 第47-53页 |
| 5.2.1 无加载时 | 第47-48页 |
| 5.2.2 加载1层时 | 第48-50页 |
| 5.2.3 加载多层时 | 第50-53页 |
| 5.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 第六章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 6.1 结论 | 第54-55页 |
| 6.2 不足与展望 | 第55-56页 |
| 6.2.1 不足 | 第55页 |
| 6.2.2 展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 硕士期间研究成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |