| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 导论 | 第9-15页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 研究意义 | 第10-11页 |
| 1.2.1 理论意义 | 第10页 |
| 1.2.2 现实意义 | 第10-11页 |
| 1.3 主要内容及研究方法 | 第11-13页 |
| 1.3.1 主要内容 | 第11页 |
| 1.3.2 研究方法 | 第11-12页 |
| 1.3.3 技术路线图 | 第12-13页 |
| 1.4 创新与不足 | 第13-15页 |
| 1.4.1 论文的创新 | 第13页 |
| 1.4.2 论文的不足 | 第13-15页 |
| 第2章 理论基础与文献综述 | 第15-31页 |
| 2.1 OFDI逆向溢出的相关理论 | 第15-22页 |
| 2.1.1 我国OFDI的特点 | 第15-20页 |
| 2.1.2 OFDI逆向溢出机制 | 第20-22页 |
| 2.2 东道国创新能力分析 | 第22-25页 |
| 2.2.1 东道国专利申请数 | 第23页 |
| 2.2.2 东道国研发投入 | 第23页 |
| 2.2.3 东道国人力资本 | 第23-24页 |
| 2.2.4 东道国知识产权保护 | 第24页 |
| 2.2.5 东道国技术市场 | 第24-25页 |
| 2.3 制度距离的理论分析 | 第25-27页 |
| 2.3.1 制度距离的界定 | 第25-26页 |
| 2.3.2 制度距离的构成维度 | 第26-27页 |
| 2.4 东道国创新能力与OFDI逆向技术溢出文献回顾 | 第27-28页 |
| 2.4.1 国外相关研究 | 第27-28页 |
| 2.4.2 国内相关研究 | 第28页 |
| 2.5 制度距离与OFDI逆向技术溢出文献回顾 | 第28-30页 |
| 2.5.1 国外研究动态 | 第29页 |
| 2.5.2 国内研究动态 | 第29-30页 |
| 2.6 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 东道国创新能力对OFDI逆向技术溢出的影响分析 | 第31-34页 |
| 3.1 东道国专利申请数的影响分析 | 第31页 |
| 3.2 东道国研发投入的影响分析 | 第31-32页 |
| 3.3 东道国人力资本水平的影响分析 | 第32页 |
| 3.4 东道国知识产权保护力度的影响分析 | 第32-33页 |
| 3.5 东道国技术市场的影响分析 | 第33页 |
| 3.6 本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 制度距离在东道国创新能力对OFDI逆向技术溢出影响的调节作用分析 | 第34-37页 |
| 4.1 管制距离的调节作用分析 | 第34-35页 |
| 4.2 规范距离的调节作用分析 | 第35-36页 |
| 4.3 本章小结 | 第36-37页 |
| 第5章 实证分析 | 第37-46页 |
| 5.1 计量模型及数据来源 | 第37-40页 |
| 5.1.1 基本模型设定 | 第37页 |
| 5.1.2 变量说明与数据来源 | 第37-38页 |
| 5.1.3 调节模型构建及变量描述 | 第38-39页 |
| 5.1.4 描述性统计与相关性分析 | 第39-40页 |
| 5.2 东道国创新能力对OFDI逆向溢出的实证分析 | 第40-43页 |
| 5.2.1 东道国专利申请数的实证分析 | 第41-42页 |
| 5.2.2 东道国研发投入的实证分析 | 第42页 |
| 5.2.3 东道国人力资本水平的实证分析 | 第42-43页 |
| 5.2.4 东道国知识产权保护力度的实证分析 | 第43页 |
| 5.2.5 东道国技术市场的实证分析 | 第43页 |
| 5.3 制度距离调节作用分析 | 第43-44页 |
| 5.3.1 管制距离调节效应分析 | 第44页 |
| 5.3.2 规范距离调节效应分析 | 第44页 |
| 5.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 第6章 结论与政策建议 | 第46-50页 |
| 6.1 主要研究结论 | 第46-47页 |
| 6.2 相关政策建议 | 第47-48页 |
| 6.2.1 宏观国家层面 | 第47-48页 |
| 6.2.2 微观企业层面 | 第48页 |
| 6.3 本章小结 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 附录 | 第55-71页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
