| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-27页 |
| 1.1 半导体光催化概述 | 第12-14页 |
| 1.1.1 半导体光催化材料 | 第12-13页 |
| 1.1.2 半导体光催化原理 | 第13-14页 |
| 1.2 半导体光催化活性影响因素 | 第14-17页 |
| 1.2.1 禁带宽度和位置 | 第14-15页 |
| 1.2.2 晶体结构类型 | 第15-16页 |
| 1.2.3 晶体缺陷和比表面积 | 第16页 |
| 1.2.4 颗粒尺寸和形貌 | 第16页 |
| 1.2.5 外部因素 | 第16-17页 |
| 1.3 石墨相氮化碳简述 | 第17-21页 |
| 1.3.1 g-C_3N_4的结构 | 第17-19页 |
| 1.3.2 g-C_3N_4的制备方法 | 第19-20页 |
| 1.3.3 g-C_3N_4的性质 | 第20-21页 |
| 1.4 g-C_3N_4的改性研究 | 第21-25页 |
| 1.4.1 形貌调控 | 第22页 |
| 1.4.2 半导体掺杂 | 第22-23页 |
| 1.4.3 表面修饰改性 | 第23-24页 |
| 1.4.4 复合改性 | 第24-25页 |
| 1.5 选题依据和主要研究内容 | 第25-27页 |
| 1.5.1 选题依据 | 第25页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第2章 TiO_2/g-C_3N_4半导体纳米复合材料的制备及光催化性能的研究 | 第27-42页 |
| 2.1 引言 | 第27页 |
| 2.2 实验部分 | 第27-29页 |
| 2.2.1 化学试剂与实验仪器 | 第27-28页 |
| 2.2.2 光催化材料的制备 | 第28-29页 |
| 2.3 结构与性能表征 | 第29-30页 |
| 2.3.1 热重测试(TG) | 第29页 |
| 2.3.2 X射线衍射测试(XRD) | 第29页 |
| 2.3.3 样品形貌观察(SEM/TEM) | 第29页 |
| 2.3.4 傅里叶红外光谱测试(FT-IR) | 第29页 |
| 2.3.5 X射线光电子能谱测试(XPS) | 第29页 |
| 2.3.6 紫外可见漫反射光谱测试(UV-vis DRS) | 第29-30页 |
| 2.3.7 光催化性能测试 | 第30页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第30-39页 |
| 2.4.1 热重分析 | 第30-31页 |
| 2.4.2 X射线衍射分析 | 第31页 |
| 2.4.3 样品形貌分析 | 第31-33页 |
| 2.4.4 红外光谱分析 | 第33-34页 |
| 2.4.5 X射线光电子能谱分析 | 第34-35页 |
| 2.4.6 紫外可见漫反射光谱分析 | 第35-36页 |
| 2.4.7 光催化性能分析 | 第36-39页 |
| 2.5 光催化机理讨论 | 第39-41页 |
| 2.6 本章小结 | 第41-42页 |
| 第3章 In_2S_3/g-C_3N_4半导体纳米复合材料的制备及光催化性能的研究 | 第42-53页 |
| 3.1 引言 | 第42页 |
| 3.2 实验部分 | 第42-43页 |
| 3.2.1 化学试剂与实验仪器 | 第42页 |
| 3.2.2 光催化材料的制备 | 第42-43页 |
| 3.3 结构与性能表征 | 第43页 |
| 3.3.1 X射线衍射测试(XRD) | 第43页 |
| 3.3.2 样品形貌观察(SEM/TEM) | 第43页 |
| 3.3.3 傅里叶红外光谱测试(FT-IR) | 第43页 |
| 3.3.4 紫外可见漫反射光谱测试(UV-vis DRS) | 第43页 |
| 3.3.5 光催化性能测试 | 第43页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第43-50页 |
| 3.4.1 X射线衍射分析 | 第44页 |
| 3.4.2 样品形貌分析 | 第44-46页 |
| 3.4.3 红外光谱分析 | 第46页 |
| 3.4.4 紫外可见漫反射光谱分析 | 第46-48页 |
| 3.4.5 光催化性能分析 | 第48-50页 |
| 3.5 光催化机理讨论 | 第50-52页 |
| 3.6 本章小结 | 第52-53页 |
| 第4章 SnO_2/g-C_3N_4半导体纳米复合材料的制备及光催化性能的研究 | 第53-65页 |
| 4.1 引言 | 第53页 |
| 4.2 实验部分 | 第53-54页 |
| 4.2.1 化学试剂与实验仪器 | 第53-54页 |
| 4.2.2 光催化材料的制备 | 第54页 |
| 4.3 结构与性能表征 | 第54-55页 |
| 4.3.1 X射线衍射测试(XRD) | 第54页 |
| 4.3.2 样品形貌观察(SEM/TEM) | 第54页 |
| 4.3.3 傅里叶红外光谱测试(FT-IR) | 第54页 |
| 4.3.4 紫外可见漫反射光谱测试(UV-vis DRS) | 第54页 |
| 4.3.5 光催化性能测试 | 第54-55页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第55-62页 |
| 4.4.1 X射线衍射分析 | 第55-56页 |
| 4.4.2 样品形貌分析 | 第56-57页 |
| 4.4.3 红外光谱分析 | 第57-58页 |
| 4.4.4 紫外可见漫反射光谱分析 | 第58-59页 |
| 4.4.5 光催化性能分析 | 第59-62页 |
| 4.5 光催化机理讨论 | 第62-64页 |
| 4.6 本章小结 | 第64-65页 |
| 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 附录A 攻读工程硕士学位期间发表的论文 | 第79页 |
