| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第12-21页 |
| 1.1 研究工作的背景与意义 | 第12-13页 |
| 1.2 激光制导武器面临的电磁环境 | 第13-15页 |
| 1.3 激光探测系统电磁屏蔽技术的国内外研究历史与现状 | 第15-19页 |
| 1.3.1 激光探测系统电磁屏蔽技术国外研究现状 | 第15-18页 |
| 1.3.2 国内整流罩屏蔽膜系的研究现状 | 第18-19页 |
| 1.4 激光探测系统存在的问题 | 第19页 |
| 1.5 本论文的结构安排 | 第19-21页 |
| 第二章 电磁环境对激光探测系统干扰机理研究 | 第21-25页 |
| 2.1 激光探测系统基本工作原理及组成 | 第21-22页 |
| 2.1.1 激光探测系统基本工作原理 | 第21页 |
| 2.1.2 激光探测系统的组成及功能 | 第21-22页 |
| 2.2 电磁环境下激光探测系统内部工作特性分析 | 第22-23页 |
| 2.3 激光探测系统干扰机理分析 | 第23-24页 |
| 2.4 本章小结 | 第24-25页 |
| 第三章 激光探测系统电磁屏蔽原理分析 | 第25-37页 |
| 3.1 探测系统电磁屏蔽设计分析 | 第25-26页 |
| 3.2 金属网栅屏蔽整流罩设计分析 | 第26-32页 |
| 3.2.1 金属网栅整流罩屏蔽效能 | 第26-31页 |
| 3.2.2 金属网栅整流罩的透光性及成像性 | 第31-32页 |
| 3.3 ITO透明导电膜整流罩设计分析 | 第32-36页 |
| 3.3.1 ITO透明导电膜整流罩屏蔽效能 | 第33-35页 |
| 3.3.2 ITO透明导电膜整流罩的透光性和成像性 | 第35-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 金属网栅整流罩设计及验证 | 第37-50页 |
| 4.1 金属网栅整流罩设计 | 第37-43页 |
| 4.1.1 金属网栅整流罩的周期和线宽设计 | 第37-39页 |
| 4.1.2 金属网栅的设计步骤 | 第39-41页 |
| 4.1.3 金属网栅整流罩制备方法介绍 | 第41页 |
| 4.1.4 金属网栅整流罩制备 | 第41-43页 |
| 4.2 金属网栅整流罩测试 | 第43-49页 |
| 4.2.1 金属网栅整流罩测试原理 | 第43-45页 |
| 4.2.2 金属网栅整流罩测试步骤 | 第45-46页 |
| 4.2.3 金属网栅整流罩的试验数据 | 第46-48页 |
| 4.2.4 金属网栅整流罩屏蔽效能理论值与实测值比较分析 | 第48-49页 |
| 4.3 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 ITO透明导电膜整流罩的设计及验证 | 第50-60页 |
| 5.1 ITO透明导电膜整流罩设计 | 第50-59页 |
| 5.1.1 ITO透明导电膜整流罩制备方法介绍 | 第50页 |
| 5.1.2 ITO透明导电膜整流罩设计 | 第50-54页 |
| 5.1.3 ITO透明导电膜整流罩的制备 | 第54-55页 |
| 5.1.4 ITO透明导电膜整流罩的测试 | 第55-57页 |
| 5.1.5 三种整流罩试验结果分析 | 第57-59页 |
| 5.2 试验结论 | 第59页 |
| 5.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 第六章 屏蔽整流罩的透波性及成像性研究 | 第60-66页 |
| 6.1 光学透过率测试 | 第61-63页 |
| 6.2 试验结果分析 | 第63页 |
| 6.3 成像性能测试 | 第63-64页 |
| 6.4 本章小结 | 第64-66页 |
| 第七章 全文总结与展望 | 第66-68页 |
| 7.1 全文总结 | 第66-67页 |
| 7.2 后续工作展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第72-73页 |
