中文摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-23页 |
1.1 纳米材料的发展历程 | 第9页 |
1.2 纳米材料的应用领域 | 第9-12页 |
1.2.1 纳米材料的光学应用 | 第10-11页 |
1.2.2 纳米材料的磁性应用 | 第11页 |
1.2.3 纳米颗粒活性及其催化应用 | 第11-12页 |
1.3 TiO_2纳米材料的应用现状 | 第12-17页 |
1.3.1 染料敏化太阳能电池 | 第12-15页 |
1.3.2 光催化反应 | 第15-17页 |
1.3.3 卫生环保方面的应用 | 第17页 |
1.4 纳米材料的制备技术 | 第17-19页 |
1.4.1 物理制备方法 | 第17-18页 |
1.4.2 化学制备方法 | 第18-19页 |
1.5 TiO_2纳米材料的制备工艺 | 第19-21页 |
1.5.1 液相制备法 | 第19-20页 |
1.5.2 气相制备法 | 第20-21页 |
1.5.3 离子注入法 | 第21页 |
1.6 TiO_2纳米材料的改性 | 第21-22页 |
1.7 本论文的主要工作 | 第22-23页 |
第二章 理论基础及样品的制备与表征 | 第23-35页 |
2.1 离子注入技术简介 | 第23-26页 |
2.1.1 离子注入技术的原理 | 第23-25页 |
2.1.2 离子注入技术的特点 | 第25-26页 |
2.1.3 SRIM模拟程序简介 | 第26页 |
2.2 样品的离子注入和退火 | 第26-30页 |
2.2.1 Ti离子单独注入SiO_2基底 | 第27-28页 |
2.2.2 Ti、C离子注入SiO_2基底 | 第28页 |
2.2.3 样品的退火条件 | 第28-30页 |
2.3 测试手段及基本原理 | 第30-35页 |
2.3.1 紫外-可见分光光度计(UV-Vis) | 第30-31页 |
2.3.2 掠入射X射线衍射(GIXRD) | 第31-32页 |
2.3.3 原子力显微镜(AFM) | 第32-33页 |
2.3.4 透射电子显微镜(TEM) | 第33-35页 |
第三章 Ti离子注入SiO_2合成TiO_2纳米颗粒及其光学性质研究 | 第35-44页 |
3.1 UV-Vis测试结果及分析 | 第36-38页 |
3.2 TEM测试结果及分析 | 第38-40页 |
3.3 GIXRD测试结果及分析 | 第40-41页 |
3.4 AFM测试结果及分析 | 第41-42页 |
3.5 光催化测试结果及分析 | 第42-43页 |
3.6 本章小结 | 第43-44页 |
第四章 TiO_2纳米颗粒膜的C离子辐照改性研究 | 第44-51页 |
4.1 N_2气氛下的退火情况 | 第44-46页 |
4.2 O_2气氛下的退火情况 | 第46-49页 |
4.2.1 UV-Vis测试结果及分析 | 第46-48页 |
4.2.2 AFM测试结果及分析 | 第48-49页 |
4.3 本章小结 | 第49-51页 |
第五章 结论与展望 | 第51-53页 |
参考文献 | 第53-59页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第59-60页 |
致谢 | 第60-61页 |