| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 课题背景 | 第10-11页 |
| 1.2 金刚石的晶体结构 | 第11-12页 |
| 1.3 CVD金刚石膜生长机理 | 第12-14页 |
| 1.4 金刚石的分类 | 第14-16页 |
| 1.5 超纳米金刚石膜的优异性能及其应用 | 第16-19页 |
| 1.5.1 机械领域 | 第17-18页 |
| 1.5.2 场发射材料 | 第18页 |
| 1.5.3 光学性能 | 第18页 |
| 1.5.4 电化学性能 | 第18-19页 |
| 1.5.5 声学性能 | 第19页 |
| 1.5.6 生物医学领域 | 第19页 |
| 1.6 超纳米金刚石膜的制备方法 | 第19-23页 |
| 1.6.1 微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD） | 第20-21页 |
| 1.6.2 热丝化学气相沉积法（HFCVD） | 第21页 |
| 1.6.3 直流电弧等离子体炬喷射化学气相沉积法（Direct CurrentArc Plasma Jet CVD） | 第21-23页 |
| 1.6.4 直流辉光放电等离子体化学气相沉积法（DC-CVD） | 第23页 |
| 1.7 选题意义及研究内容 | 第23-26页 |
| 第二章 实验装置及表征 | 第26-38页 |
| 2.1 直流辉光放电等离子体化学气相沉积装置介绍 | 第26-27页 |
| 2.2 直流辉光放电等离子体原理 | 第27-30页 |
| 2.3 超细纳米金刚石膜的表征 | 第30-38页 |
| 2.3.1 场发射扫描电子显微镜（SEM） | 第31页 |
| 2.3.2 激光拉曼光谱仪（Laser Raman Spectroscopy ） | 第31-34页 |
| 2.3.3 透射电子显微镜（TEM） | 第34-36页 |
| 2.3.4 X射线衍射仪（X-ray Diffractometer，XRD） | 第36页 |
| 2.3.5 原子力显微镜（Atomic Force Microscopy，AFM） | 第36-38页 |
| 第三章 大面积超细纳米金刚石膜的制备工艺研究 | 第38-62页 |
| 3.1 硅衬底表面预处理对金刚石膜形核的影响 | 第38-40页 |
| 3.2 甲烷浓度对超纳米金刚石膜生长的影响 | 第40-45页 |
| 3.3 沉积温度对大面积超纳米金刚石膜的影响 | 第45-48页 |
| 3.4 氩气对金刚石薄膜沉积的影响 | 第48-56页 |
| 3.4.1 氩气对正柱区等离子体的影响 | 第48-49页 |
| 3.4.2 氩气对金刚石质量的影响 | 第49-56页 |
| 3.5 氮气对大面积超纳米金刚石膜的影响 | 第56-61页 |
| 3.6 本章小结 | 第61-62页 |
| 第四章 大面积超纳米金刚石膜的制备 | 第62-74页 |
| 4.1 大面积超纳米金刚石薄膜沉积均匀性分析 | 第62-65页 |
| 4.1.1 基片高度对等离子体均匀性的影响 | 第62-64页 |
| 4.1.2 基片台结构对超纳米金刚石膜均匀性的影响 | 第64-65页 |
| 4.2 大面积超纳米金刚石膜的制备 | 第65-71页 |
| 4.3 大面积超纳米金刚石膜沉积过程中存在的问题 | 第71-74页 |
| 4.3.1 硅片移位 | 第71-72页 |
| 4.3.2 阴极积碳 | 第72-74页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第74-78页 |
| 5.1 全文总结 | 第74-75页 |
| 5.2 展望 | 第75-78页 |
| 参考文献 | 第78-90页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文及专利 | 第90-92页 |
| 致谢 | 第92页 |
