激光退火对氧化锌薄膜压敏电阻性能影响的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·前言 | 第10页 |
| ·ZnO压敏电阻概述 | 第10-16页 |
| ·ZnO压敏电阻的物理、化学性质 | 第10-12页 |
| ·ZnO压敏电阻的电学性能 | 第12-14页 |
| ·ZnO压敏电阻的低压化途径 | 第14-15页 |
| ·薄膜压敏电阻的制备 | 第15-16页 |
| ·激光与薄膜的相互作用 | 第16-17页 |
| ·本课题的研究目的和主要内容 | 第17-19页 |
| ·研究目的 | 第17-18页 |
| ·研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 ZnO基陶瓷靶材的制备 | 第19-29页 |
| ·引言 | 第19页 |
| ·实验部分 | 第19-23页 |
| ·实验材料 | 第19-20页 |
| ·实验设备 | 第20页 |
| ·实验方法 | 第20-23页 |
| ·结果与讨论 | 第23-28页 |
| ·成型压力对靶材的影响 | 第23-25页 |
| ·烧结温度对靶材的影响 | 第25-26页 |
| ·靶材的微观形貌分析 | 第26页 |
| ·靶材的结构分析 | 第26-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 ZnO薄膜压敏电阻的制备 | 第29-38页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·实验部分 | 第29-33页 |
| ·实验材料 | 第29-30页 |
| ·实验设备 | 第30页 |
| ·实验方法 | 第30-33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-37页 |
| ·溅射功率对薄膜沉积速率的影响 | 第33-34页 |
| ·溅射功率对薄膜表面形貌的影响 | 第34-36页 |
| ·溅射功率对薄膜微观结构的影响 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 ZnO薄膜压敏电阻的退火处理 | 第38-50页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·实验部分 | 第38-39页 |
| ·实验材料和设备 | 第38-39页 |
| ·实验方法 | 第39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-48页 |
| ·退火温度对薄膜形貌的影响 | 第39-41页 |
| ·退火温度对薄膜微观结构的影响 | 第41-45页 |
| ·退火温度对薄膜成分的影响 | 第45-46页 |
| ·退火处理时薄膜的生长机理 | 第46-47页 |
| ·退火温度对薄膜电学性能的影响 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第五章 ZnO薄膜压敏电阻的激光退火处理 | 第50-62页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·实验部分 | 第50-53页 |
| ·实验材料 | 第50-51页 |
| ·实验设备 | 第51页 |
| ·实验方法 | 第51-53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-60页 |
| ·激光退火对薄膜形貌的影响 | 第53-56页 |
| ·激光退火对薄膜微观结构的影响 | 第56-57页 |
| ·激光退火对薄膜成分的影响 | 第57页 |
| ·激光退火对薄膜电学性能影响 | 第57-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第六章 总结和展望 | 第62-64页 |
| ·工作总结 | 第62-63页 |
| ·工作展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第72页 |
