极低β超导CH腔体的物理和实验研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 引言 | 第12-28页 |
| ·超导CH型腔体研究的动机 | 第12-25页 |
| ·超导直线加速器的研究前沿 | 第12-15页 |
| ·超导腔体的发展趋势 | 第15-19页 |
| ·超导CH腔体的发展现状 | 第19-22页 |
| ·中国发展超导CH腔体的现实需求 | 第22-25页 |
| ·论文的主要工作和创新点 | 第25-27页 |
| ·论文组织结构 | 第27-28页 |
| 第二章 基础理论 | 第28-40页 |
| ·超导腔体理论 | 第28-36页 |
| ·超导特性 | 第28-33页 |
| ·超导腔体基础 | 第33-36页 |
| ·超导CH腔体电磁基础 | 第36-40页 |
| 第三章 超导CH腔体基础问题研究 | 第40-63页 |
| ·超导CH腔体的电磁问题研究 | 第40-44页 |
| ·超导CH腔体的耦合器设计研究 | 第44-46页 |
| ·超导CH腔体的调谐器研究 | 第46-49页 |
| ·超导CH腔体的场调节研究 | 第49-55页 |
| ·CH铜模型腔体的加工 | 第55-60页 |
| ·CH铜模型腔体的测试研究 | 第60-63页 |
| 第四章 超导CH腔体设计 | 第63-82页 |
| ·电磁设计 | 第63-74页 |
| ·模拟准备 | 第63-65页 |
| ·超导CH腔体建模 | 第65-66页 |
| ·参数扫描 | 第66-72页 |
| ·超导CH腔体的优化结果 | 第72-74页 |
| ·机械设计 | 第74-80页 |
| ·清洗口位置的设计 | 第80页 |
| ·二次电子倍增效应 | 第80-82页 |
| 第五章 超导CH腔体加工 | 第82-97页 |
| ·超导腔体加工工艺介绍 | 第82-83页 |
| ·超导CH腔体加工 | 第83-92页 |
| ·支撑杆加工 | 第83-87页 |
| ·大樑的焊接成型 | 第87-88页 |
| ·外筒成型 | 第88-89页 |
| ·中间段组装焊接 | 第89-90页 |
| ·端盖的成型 | 第90-91页 |
| ·腔体整体焊接成型 | 第91-92页 |
| ·超导CH腔体加工后常规测试 | 第92-97页 |
| ·真空检查 | 第92-93页 |
| ·小球微扰法测量轴向加速电场分布 | 第93-94页 |
| ·超导CH腔体耦合度测量 | 第94-97页 |
| 第六章 超导CH腔体表面处理 | 第97-106页 |
| ·超导腔体表面后处理介绍 | 第97页 |
| ·超导CH腔体的超声波清洗 | 第97-98页 |
| ·超导CH腔体的BCP重度刻蚀 | 第98-100页 |
| ·超导CH腔体的除氢烘烤 | 第100-101页 |
| ·超导CH腔体的BCP轻抛 | 第101页 |
| ·超导CH腔体的HPR | 第101-103页 |
| ·超导CH腔体的超净间装配和低温烘烤 | 第103-106页 |
| 第七章 超导CH腔体测试 | 第106-113页 |
| ·超导腔体测试理论 | 第106-107页 |
| ·降温过程 | 第107-108页 |
| ·测试过程 | 第108-110页 |
| ·测试结果分析 | 第110-113页 |
| 第八章 结论与展望 | 第113-115页 |
| ·结论 | 第113-114页 |
| ·进一步工作的方向 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-120页 |
| 作者简介及发表文章 | 第120页 |
