| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| ·硬质涂层 | 第12-14页 |
| ·硬质涂层评价指标 | 第14-19页 |
| ·CrN涂层的性质、结构及应用 | 第19-22页 |
| ·CrN涂层的研究进展 | 第22-23页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射技术 | 第23-27页 |
| ·本论文研究的内容与目标 | 第27-28页 |
| 第二章 实验工艺与表征方法 | 第28-35页 |
| ·薄膜制备方法 | 第28-30页 |
| ·电源的放电特性 | 第30-32页 |
| ·CrN涂层的沉积工艺 | 第32-33页 |
| ·涂层的表征技术 | 第33-35页 |
| 第三章 N_2分压对HIPIMS制备CrN涂层的结构与性能的影响 | 第35-42页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·CrN涂层制备 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-40页 |
| ·N_2分压对CrN结构的影响 | 第36-37页 |
| ·N_2分压对CrN形貌的影响 | 第37-39页 |
| ·N_2分压对CrN硬度的影响 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 脉冲电压对HIPIMS制备CrN涂层的结构与性能的影响 | 第42-51页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·CrN涂层制备 | 第42-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-50页 |
| ·脉冲电压对CrN沉积速率的影响 | 第43-44页 |
| ·脉冲电压对CrN结构的影响 | 第44-45页 |
| ·脉冲电压对CrN涂层的形貌影响 | 第45-47页 |
| ·脉冲电压对CrN涂层力学性能的影响 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 基体偏压对HIPIMS制备CrN涂层的结构和力学性能的影响 | 第51-64页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·CrN涂层的制备 | 第51-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-63页 |
| ·基体偏压对CrN结构的影响 | 第52-53页 |
| ·基体偏压对CrN涂层的形貌影响 | 第53-55页 |
| ·基体偏压对CrN涂层的力学性能的影响 | 第55-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 结论与展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 攻读学位期间发表论文以及参加会议和项目 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
