RWG基函数矩量法中的奇异积分研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·研究背景及研究现状 | 第7-8页 |
| ·表面积分方程 | 第8-9页 |
| ·本文的主要结构和研究目标 | 第9-10页 |
| ·算例测评平台 | 第10-11页 |
| 第二章 电场积分方程的奇异性分析与处理 | 第11-29页 |
| ·矩量法的基本原理 | 第11-15页 |
| ·矩量法的数学原理 | 第11-12页 |
| ·RWG 基函数 | 第12-14页 |
| ·网格剖分原则及多面片共边模型 | 第14-15页 |
| ·电场积分方程的建立 | 第15-17页 |
| ·理想导体（PEC）目标的散射模型 | 第15-16页 |
| ·电场边界条件建立 EFIE | 第16页 |
| ·EFIE 的数值特性 | 第16-17页 |
| ·EFIE 奇异积分的处理方法 | 第17-24页 |
| ·EFIE 的离散 | 第18-19页 |
| ·内层奇异性的处理 | 第19-22页 |
| ·近奇异性的分析 | 第22-23页 |
| ·奇异性不同处理方法的比较 | 第23-24页 |
| ·金属目标的散射与辐射算例 | 第24-29页 |
| 第三章 磁场积分方程的奇异性分析与处理 | 第29-45页 |
| ·磁场积分方程的建立 | 第29-31页 |
| ·MFIE 奇异积分的分析 | 第31-37页 |
| ·MFIE 的离散 | 第31页 |
| ·内层积分奇异的处理 | 第31-34页 |
| ·对数奇异性的证明 | 第34-37页 |
| ·MFIE 高阶奇异性的处理方法 | 第37-42页 |
| ·奇异性的转化 | 第37-38页 |
| ·新内层奇异积分的处理方法 | 第38-42页 |
| ·影响 MFIE 精度的两种主要因素 | 第42-43页 |
| ·奇异积分 | 第43页 |
| ·立体角问题 | 第43页 |
| ·数值算例 | 第43-45页 |
| 第四章 PMCHW 积分方程的奇异性分析 | 第45-53页 |
| ·PMCHW 积分方程的建立 | 第45-47页 |
| ·PMCHW 积分方程奇异性的解析处理 | 第47-50页 |
| ·内层奇异性的处理 | 第49页 |
| ·外层奇异性的处理 | 第49-50页 |
| ·数值算例 | 第50-53页 |
| 第五章 源分布面上场的奇异性处理 | 第53-57页 |
| ·PEC 表面场的计算 | 第53-54页 |
| ·PMC 表面场的计算 | 第54-55页 |
| ·普通介质材料表面的场计算 | 第55页 |
| ·奇异性再讨论 | 第55-57页 |
| 第六章 结束语 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 在读期间研究成果 | 第63-64页 |
