| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-19页 |
| ·研究背景 | 第13-14页 |
| ·电子与原子分子的散射过程 | 第14-15页 |
| ·X射线与原子分子的散射过程 | 第15-17页 |
| ·非共振X射线散射 | 第15-16页 |
| ·共振X射线散射 | 第16-17页 |
| ·结论 | 第17-19页 |
| 第二章 高分辨非共振X射线散射技术 | 第19-35页 |
| ·X射线散射的发展历程 | 第19-20页 |
| ·非共振X射线散射的理论基础 | 第20-24页 |
| ·实验方法及实验装置介绍 | 第24-28页 |
| ·实验原理 | 第24-25页 |
| ·实验装置 | 第25-28页 |
| ·非共振X射线散射的实验测量方法 | 第28-32页 |
| ·非共振X射线散射方法的特点 | 第32-33页 |
| ·非共振X射线散射方法的优点 | 第32-33页 |
| ·非共振X射线散射方法的缺点 | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 快电子能量损失谱方法 | 第35-49页 |
| ·快电子能量损失谱方法 | 第35-37页 |
| ·快电子能量损失谱仪介绍 | 第37-39页 |
| ·相关原子分子动力学参数的介绍 | 第39-43页 |
| ·快电子能量损失谱的实验测量方法 | 第43-47页 |
| ·快电子碰撞方法的特点 | 第47页 |
| ·快电子碰撞方法的优点 | 第47页 |
| ·快电子碰撞方法的缺点 | 第47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 H_2基态电子结构的高分辨非共振X射线散射研究 | 第49-59页 |
| ·实验研究现状 | 第49-51页 |
| ·理论背景及现状 | 第51-53页 |
| ·实验方法 | 第53-54页 |
| ·实验结果与讨论 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-59页 |
| 第五章 He基态电子结构的高分辨非共振X射线散射研究 | 第59-69页 |
| ·研究现状 | 第59-61页 |
| ·实验方法 | 第61-62页 |
| ·实验结果与讨论 | 第62-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第六章 H_2绝对光学振子强度的Dipole(γ,γ)方法测量 | 第69-83页 |
| ·绝对光学振子强度的研究现状 | 第69-74页 |
| ·光学方法 | 第70-72页 |
| ·高能电子碰撞方法 | 第72-74页 |
| ·Dipole(γ,γ)方法 | 第74-76页 |
| ·H_2的绝对光学振子强度研究现状 | 第76-77页 |
| ·实验方法 | 第77-79页 |
| ·实验结果与讨论 | 第79-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 第七章 Na原子价壳层激发的快电子碰撞研究 | 第83-93页 |
| ·研究现状 | 第83-85页 |
| ·实验方法 | 第85-86页 |
| ·实验结果与讨论 | 第86-92页 |
| ·本章小结 | 第92-93页 |
| 总结与展望 | 第93-97页 |
| 参考文献 | 第97-105页 |
| 附录A 金属蒸汽束流源的研制与使用 | 第105-111页 |
| A.1 研究的必要性 | 第105-106页 |
| A.2 金属蒸汽束流源的研制 | 第106-108页 |
| A.3 金属蒸汽束流源的使用方法 | 第108-109页 |
| A.4 金属蒸汽束流源的经验教训 | 第109页 |
| A.5 小结 | 第109-111页 |
| 附录B KD系数获取方法及数据处理程序参数介绍 | 第111-117页 |
| B.1 KD系数获取方法 | 第111-112页 |
| B.2 数据处理程序参数设置方法介绍 | 第112-117页 |
| 致谢 | 第117-119页 |
| 在读期间发表的论文 | 第119-121页 |
