非晶硅薄膜的制备及连续激光晶化
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-28页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·太阳能的发展历史 | 第11-12页 |
| ·硅基太阳能电池的原理及种类 | 第12-16页 |
| ·硅基太阳能电池的工作原理 | 第12-13页 |
| ·硅基太阳能电池的种类 | 第13-16页 |
| ·非晶硅薄膜的晶化 | 第16-20页 |
| ·非晶硅薄膜的晶化意义 | 第16页 |
| ·多晶硅薄膜的制取方法 | 第16-20页 |
| ·激光晶化法制备多晶硅薄膜的机理及研究背景 | 第20-23页 |
| ·激光晶化法的机理 | 第20-22页 |
| ·激光晶化法制备多晶硅薄膜的研究现状 | 第22-23页 |
| ·本文主要研究内容 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-28页 |
| 第二章 非晶硅薄膜的制备及性能表征 | 第28-42页 |
| ·磁控溅射法简介 | 第28-29页 |
| ·磁控溅射基本原理 | 第28页 |
| ·磁控溅射的优缺点及应用 | 第28-29页 |
| ·硅薄膜的性能表征 | 第29-34页 |
| ·X 射线衍射测试技术 | 第29-30页 |
| ·拉曼光谱测试技术 | 第30-32页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第32-33页 |
| ·扫描探针显微镜 | 第33-34页 |
| ·紫外可见分光光度计 | 第34页 |
| ·非晶硅薄膜的制备 | 第34-39页 |
| ·靶材及衬底的清洗 | 第34-35页 |
| ·磁控溅射实验过程 | 第35页 |
| ·溅射功率及氩气分压对沉积速率的影响 | 第35-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-42页 |
| 第三章 连续激光晶化非晶硅薄膜的研究 | 第42-64页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·实验过程及方法 | 第42-44页 |
| ·实验结果及分析 | 第44-59页 |
| ·激光功率密度对晶化效果的影响 | 第44-49页 |
| ·激光波长对晶化效果的影响 | 第49-54页 |
| ·衬底对晶化效果的影响 | 第54-56页 |
| ·激光照射时间对晶化效果的影响 | 第56-58页 |
| ·改变扫描方式后的晶化效果 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 第四章 工作结论与展望 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
| 硕士期间完成的论文 | 第68-69页 |