| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-11页 |
| 目录 | 第11-14页 |
| 插图目录 | 第14-16页 |
| 附表目录 | 第16-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-26页 |
| ·Ge薄膜概述 | 第17-20页 |
| ·Ge薄膜的结构与性质 | 第17-18页 |
| ·Ge薄膜的研究进展 | 第18-20页 |
| ·过渡金属掺杂Ge薄膜概述 | 第20-22页 |
| ·过渡金属掺杂Ge薄膜的性质 | 第20-21页 |
| ·过渡金属掺杂Ge薄膜研究现状 | 第21-22页 |
| ·Ge薄膜的制备与表征方法 | 第22-25页 |
| ·Ge薄膜的制备方法 | 第22-24页 |
| ·Ge薄膜的表征方法 | 第24-25页 |
| ·研究意义与主要研究内容 | 第25-26页 |
| 第二章 Ge薄膜的制备及其特性 | 第26-40页 |
| ·Ge薄膜的制备 | 第26-27页 |
| ·Ge薄膜的结构特性 | 第27-35页 |
| ·不同溅射功率下Ge薄膜的XRD和Raman光谱 | 第27-29页 |
| ·不同溅射时间下Ge薄膜的XRD和Raman光谱 | 第29-30页 |
| ·不同基底温度下Ge薄膜的XRD和Raman光谱 | 第30-32页 |
| ·不同基底下Ge薄膜的XRD和Raman光谱 | 第32-33页 |
| ·不同溅射压强下Ge薄膜的XRD和Raman光谱 | 第33-35页 |
| ·Ge薄膜表面形貌 | 第35-37页 |
| ·最佳实验条件下制备Ge薄膜的SEM图 | 第35-36页 |
| ·最佳实验条件下制备Ge薄膜的线扫和面扫的SEM图 | 第36-37页 |
| ·Ge薄膜的光学特性 | 第37-40页 |
| ·不同压强下制备Ge薄膜的反射光谱 | 第37-38页 |
| ·不同功率下制备Ge薄膜的反射光谱 | 第38-40页 |
| 第三章 Mn_xGe_(1-x)薄膜的制备及其特性 | 第40-55页 |
| ·Mn_xGe_(1-x)的制备 | 第40-41页 |
| ·Mn_xGe_(1-x)的结构特性 | 第41-51页 |
| ·不同基底温度下Mn_xGe_(1-x)薄膜的XRD和Raman光谱 | 第41-46页 |
| ·相同基底温度下Mn_xGe_(1-x)薄膜的XRD和Raman光谱 | 第46-48页 |
| ·相同基底温度下Mn_xGe_(1-x)薄膜的EDX图 | 第48-51页 |
| ·相同基底温度下Mn_xGe_(1-x)的表面形貌 | 第51页 |
| ·相同基底温度下Mn_xGe_(1-x)的光学特性 | 第51-52页 |
| ·相同基底温度下Mn_xGe_(1-x)的磁学特性 | 第52-55页 |
| 第四章 Co掺杂Mn_xGe_(1-x)薄膜的制备及其特性 | 第55-64页 |
| ·Co掺杂Mn_xGe_(1-x)薄膜的制备 | 第55-56页 |
| ·Co掺杂Mn_xGe_(1-x)薄膜的结构特性 | 第56-60页 |
| ·Co(20 W,80 W)掺杂Mn_xGe_(1_x)薄膜的XRD和Raman光谱 | 第56-58页 |
| ·Co(20 W,80 W)掺杂Mn_xGe_(1-x)薄膜的晶格常数 | 第58-59页 |
| ·Co(20 W,80 W)掺杂Mn_(10)Ge_(90)薄膜的EDX图 | 第59-60页 |
| ·Co掺杂Mn_xGe_(1-x)薄膜的表面形貌 | 第60-61页 |
| ·Co掺杂Mn_xGe_(1-x)薄膜的磁学特性 | 第61-64页 |
| ·Co(20 W)掺杂Mn_xGe_(1-x)薄膜的磁滞回线 | 第61-63页 |
| ·Co(80 W)掺杂Mn_xGe_(1-x)薄膜的磁滞回线 | 第63-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 附录A：攻读硕士期间发表的文章 | 第71-72页 |
