摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
目录 | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第9-24页 |
·研究背景 | 第9-10页 |
·氧化钛的光催化机理 | 第10-15页 |
·半导体及能带理论 | 第10-11页 |
·TiO_2光催化反应机理 | 第11-12页 |
·影响 TiO_2光催化活性的因素 | 第12-15页 |
·负载型光催化剂 | 第15-19页 |
·负载型光催化剂的研究进展 | 第15-16页 |
·负载型氧化钛光催化剂的常用制备方法 | 第16-17页 |
·云母负载氧化钛光催化剂 | 第17-18页 |
·合成条件对 Ti4+水解的影响 | 第18-19页 |
·氧化钛光催化剂的改性 | 第19-22页 |
·研究目的和研究内容 | 第22-24页 |
·研究目的 | 第22页 |
·研究内容 | 第22-24页 |
第二章 实验材料、设备和方法 | 第24-31页 |
·原材料和主要仪器、设备 | 第24-25页 |
·合成方法的选取和合成工艺路线 | 第25-26页 |
·合成方法的选取 | 第25页 |
·合成工艺路线 | 第25-26页 |
·光催化剂的表征 | 第26-28页 |
·拉曼光谱分析(Raman spectra) | 第26页 |
·比表面积分析(BET) | 第26-27页 |
·扫描电镜分析(SEM) | 第27页 |
·X 射线衍射分析(XRD) | 第27页 |
·铝还原法测定氧化钛含量 | 第27-28页 |
·光催化性能测试方法 | 第28-31页 |
·样品的光催化活性实验 | 第28-29页 |
·绘制罗丹明 B 标准曲线 | 第29-30页 |
·紫外光对罗丹明 B 的降解 | 第30-31页 |
第三章 云母负载氧化钛的合成条件与光催化性能 | 第31-55页 |
·引言 | 第31页 |
·合理工艺参数的确定 | 第31-33页 |
·合成条件对云母负载氧化钛光催化性能的影响 | 第33-52页 |
·pH 值的影响 | 第33-40页 |
·钛源浓度的影响 | 第40-44页 |
·氧化钛负载量的影响 | 第44-50页 |
·使用 TiCl4所合成样品的光催化性能 | 第50-52页 |
·重复使用对云母负载氧化钛光催化剂的光催化性能的影响 | 第52-53页 |
·本章小结 | 第53-55页 |
第四章 WO_3-TiO_2-Mica 复合半导体型光催化剂的制备及其光催化性能 | 第55-64页 |
·引言 | 第55页 |
·WO_3含量对 WO_3-TiO_2-Mica 光催化性能的影响 | 第55-58页 |
·煅烧温度对 WO_3-TiO_2-Mica 光催化性能的影响 | 第58-62页 |
·本章小结 | 第62-64页 |
结论 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-70页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第70-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
附件 | 第72页 |