| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-37页 |
| ·引言 | 第13-15页 |
| ·半导体纳米材料掺杂的研究与发展概况 | 第15-23页 |
| ·半导体材料掺杂的基本要素 | 第15-18页 |
| ·半导体纳米材料掺杂技术研究概况 | 第18-21页 |
| ·掺杂氧化铁纳米材料的合成及光电化学性能研究 | 第21-23页 |
| ·LAL技术的基本原理 | 第23-24页 |
| ·基于LAL技术纳米材料的合成及应用研究 | 第24-28页 |
| ·本论文研究内容和意义 | 第28-31页 |
| 参考文献 | 第31-37页 |
| 第2章 高活性Ge纳米颗粒的自发生长与化学还原特性研究 | 第37-51页 |
| ·引言 | 第37-38页 |
| ·实验 | 第38-39页 |
| ·“自上而下”合成量子尺寸Ge纳米颗粒 | 第38页 |
| ·物相与结构表征 | 第38-39页 |
| ·Ge纳米颗粒的化学还原能力 | 第39页 |
| ·结果 | 第39-46页 |
| ·常温常压下Ge纳米颗粒在水溶胶中的生长与相变 | 第39-43页 |
| ·Ge纳米颗粒胶体溶液的Zeta电势与光吸收性质 | 第43-44页 |
| ·Ge纳米颗粒的化学还原性研究 | 第44-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |
| 第3章 基于LAL技术α-Fe_2O_3纳米晶的掺杂研究 | 第51-77页 |
| ·引言 | 第51-53页 |
| ·实验 | 第53-54页 |
| ·结果 | 第54-70页 |
| ·各种杂质原子前驱体的表征与分析 | 第54-58页 |
| ·Ge、Si掺杂的α-Fe_2O_3超晶格纳米结构 | 第58-64页 |
| ·Mn、Sn、Ti掺杂的α-Fe_2O_3纳米晶 | 第64-67页 |
| ·掺杂α-Fe_2O_3纳米晶的形成机制与光学性质研究 | 第67-70页 |
| ·小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 第4章 Ge掺杂α-Fe_2O_3纳米晶的可控合成、表征及应用研究 | 第77-95页 |
| ·引言 | 第77-78页 |
| ·实验 | 第78-80页 |
| ·高活性Ge胶体溶液和Ge掺杂α-Fe_2O_3纳米晶的合成 | 第78-79页 |
| ·Ge掺杂α-Fe_2O_3纳米晶薄膜的组装 | 第79页 |
| ·微观结构表征与光电化学性能测试 | 第79-80页 |
| ·结果 | 第80-89页 |
| ·不同浓度Ge掺杂的α-Fe_2O_3晶体结构分析 | 第80-86页 |
| ·光电化学性能测试与分析 | 第86-89页 |
| ·小结 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-95页 |
| 第5章 Ge掺杂α-Fe_2O_3纳米阵列结构的构筑与物性研究 | 第95-109页 |
| ·引言 | 第95-97页 |
| ·实验 | 第97-99页 |
| ·β-Fe00H及α-Fe_2O_3纳米棒阵列结构制备 | 第97页 |
| ·Ge掺杂α-Fe_2O_3纳米片阵列结构的制备 | 第97-98页 |
| ·阵列结构的物相和结构表征 | 第98页 |
| ·阵列结构的光电化学性能测试 | 第98-99页 |
| ·结果 | 第99-104页 |
| ·β-FeOOH与α-Fe_2O_3纳米棒阵列结构的形貌和物相表征 | 第99-100页 |
| ·Ge掺杂的α-Fe_2O_3纳米片阵列的组分、形貌和物相表征 | 第100-103页 |
| ·光电化学性能的测试与分析 | 第103-104页 |
| ·小结 | 第104-105页 |
| 参考文献 | 第105-109页 |
| 第6章 全文总结与展望 | 第109-111页 |
| ·全文总结 | 第109-110页 |
| ·下一步工作展望 | 第110-111页 |
| 致谢 | 第111-112页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第112-113页 |
