| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-33页 |
| ·引言 | 第13-14页 |
| ·半导体光解水制氢研究概况 | 第14-21页 |
| ·半导体光解水制氢基本原理 | 第14-16页 |
| ·半导体光解水制氢过程 | 第16-17页 |
| ·光解水制氢的影响因素 | 第17-20页 |
| ·光解水制氢测试及评价 | 第20-21页 |
| ·响应可见光的光催化剂研究进展 | 第21-25页 |
| ·可见光响应型催化剂 | 第22页 |
| ·宽带光催化剂的能带设计 | 第22-24页 |
| ·半导体复合光催化剂 | 第24-25页 |
| ·CDS 基光催化剂研究进展 | 第25-28页 |
| ·CdS 制备 | 第26页 |
| ·CdS 改性 | 第26-27页 |
| ·CdS 插入层状物和氧化物光催化剂 | 第27-28页 |
| ·CdS 固溶体催化剂 | 第28页 |
| ·CdS 石墨烯杂化 | 第28页 |
| ·可见光响应型光催化体系 | 第28-31页 |
| ·单光子系统 | 第29-30页 |
| ·双光子系统 | 第30-31页 |
| ·本文的选题依据和研究内容 | 第31-33页 |
| 第二章 实验方法 | 第33-43页 |
| ·化学试剂和实验设备 | 第33-34页 |
| ·催化剂表征仪器和方法 | 第34-36页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第34-35页 |
| ·紫外-可见漫反射光谱（DRS） | 第35页 |
| ·透射电镜分析（TEM/HRTEM） | 第35-36页 |
| ·X-射线光电子能谱（XPS） | 第36页 |
| ·光致荧光测试仪（PL） | 第36页 |
| ·催化剂的性能测试方法 | 第36-42页 |
| ·光解水产氢性能测试系统 | 第36-39页 |
| ·光催化剂量子产率测试系统 | 第39-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第三章 NiS-PdS/CdS 光催化剂水热法合成及其光解水产氢性能 | 第43-61页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·实验部分 | 第44页 |
| ·试剂和设备 | 第44页 |
| ·NiS-PdS/CdS 光催化剂的制备 | 第44页 |
| ·材料表征 | 第44页 |
| ·结果与分析 | 第44-60页 |
| ·XRD 结果分析 | 第44-46页 |
| ·紫外-可见漫反射分析 | 第46-47页 |
| ·TEM 分析 | 第47-49页 |
| ·瞬态荧光分析 | 第49-50页 |
| ·稳态光致荧光分析 | 第50-51页 |
| ·XPS 分析 | 第51-53页 |
| ·光催化制氢活性 | 第53-55页 |
| ·催化剂稳定性测试 | 第55-56页 |
| ·量子产率测试 | 第56-58页 |
| ·催化机理研究 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 NiS-PdS/CdS 光催化活性的主要影响因素探讨 | 第61-85页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·实验部分 | 第61-62页 |
| ·试剂和设备 | 第61页 |
| ·各类 CdS 基光催化剂的制备 | 第61页 |
| ·材料表征 | 第61-62页 |
| ·光催化分解水产氢 | 第62页 |
| ·结果与讨论 | 第62-84页 |
| ·CdS 陈化时间的影响 | 第62-64页 |
| ·CdS 水热处理时间的影响 | 第64-68页 |
| ·水热负载温度的影响 | 第68-71页 |
| ·水热负载时间的影响 | 第71-74页 |
| ·水热法和溶剂热法的影响 | 第74-75页 |
| ·原料的影响 | 第75-78页 |
| ·助催化剂负载量的影响 | 第78-80页 |
| ·助催化剂金属离子与硫的摩尔比的影响 | 第80-82页 |
| ·牺牲剂的影响 | 第82-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 第五章 全文总结 | 第85-88页 |
| ·主要结论 | 第85-86页 |
| ·本论文存在的问题及展望 | 第86页 |
| ·主要创新点 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-97页 |
| 致谢 | 第97-98页 |
| 攻读硕士学位期间发表和待发表的论文 | 第98-99页 |
| 发明专利 | 第99页 |