MMI-MZI波导结构制造工艺研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-8页
1 绪论	第8-15页
·现代光纤通信网络发展	第8-9页
·MZI 结构器件研究情况	第9-12页
·MZI 器件制备工艺简介	第12-13页
·本论文的工作及意义	第13-15页
2 MZI 结构波导器件原理与设计	第15-31页
·MZI 结构光开关工作原理	第15-16页
·波导层结构设计	第16-17页
·分束/耦合器结构设计	第17-26页
·Y 分支结构分束/耦合器	第17-19页
·MMI 结构原理与设计	第19-26页
·相移器件设计	第26-30页
·相位延迟器件的仿真计算	第28-30页
·本章小结	第30-31页
3 器件制备工艺	第31-44页
·外延片材料生长	第31页
·光刻工艺	第31-38页
·外延片清洗	第31-33页
·光刻胶图形转移	第33-35页
·光刻参数对实验结果影响	第35-38页
·刻蚀工艺	第38-43页
·SiO2 掩膜刻蚀	第38-39页
·湿法刻蚀	第39-40页
·ICP 刻蚀	第40-43页
·后续工艺讨论	第43页
·本章小结	第43-44页
4 波导器件测试	第44-50页
·测试平台介绍	第44-46页
·光学对准测试平台	第44-45页
·磨锥透镜光纤	第45-46页
·光纤耦合测试	第46页
·Y 分支结构分束耦合器件测试	第46-47页
·MMI 结构/分束耦合器件测试	第47-49页
·本章小结	第49-50页
5 总结	第50-51页
致谢	第51-52页
参考文献	第52-55页