| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-27页 |
| ·研究背景 | 第12-14页 |
| ·钛合金的分类及研究进展 | 第12-14页 |
| ·钛及钛合金的性能及其研究现状 | 第14-16页 |
| ·磨损性能 | 第14-15页 |
| ·腐蚀性能 | 第15-16页 |
| ·高温氧化性能 | 第16页 |
| ·钛合金的表面改性研究现状 | 第16-19页 |
| ·电子和激光的表面合金化 | 第16-17页 |
| ·金属热喷涂 | 第17页 |
| ·电镀 | 第17页 |
| ·化学镀 | 第17页 |
| ·热扩散 | 第17-18页 |
| ·阳极氧化 | 第18页 |
| ·磁控溅射技术 | 第18页 |
| ·气相沉积技术 | 第18页 |
| ·离子注入 | 第18-19页 |
| ·纳米技术 | 第19页 |
| ·表面合金化 | 第19页 |
| ·钝化膜的半导体特性及点缺陷模型（PDM） | 第19-22页 |
| ·Mott-Schottky 方程 | 第19-21页 |
| ·点缺陷模型（PDM） | 第21-22页 |
| ·钛硼化合物及其研究进展 | 第22-23页 |
| ·非晶纳米晶的研究 | 第23-26页 |
| ·非晶纳米晶的研究现状 | 第23-24页 |
| ·非晶纳米晶材料的性能特点 | 第24-26页 |
| ·论文研究意义、目的与内容 | 第26-27页 |
| 第二章 实验设备及方法 | 第27-33页 |
| ·实验材料及预处理 | 第27页 |
| ·基体材料 | 第27页 |
| ·靶材的选用和制备 | 第27页 |
| ·实验设备及装置 | 第27-30页 |
| ·实验设备 | 第27-28页 |
| ·实验原理 | 第28页 |
| ·工艺参数的选择 | 第28-29页 |
| ·渗金属工艺操作 | 第29-30页 |
| ·分析方法 | 第30-33页 |
| ·微观组织分析 | 第30页 |
| ·薄膜与基体结合力测试 | 第30-31页 |
| ·电化学性能测试 | 第31页 |
| ·高温氧化测试 | 第31-32页 |
| ·摩擦磨损性能测试 | 第32-33页 |
| 第三章 薄膜的组织与力学行为研究 | 第33-42页 |
| ·本章提要 | 第33页 |
| ·薄膜的组织分析 | 第33-38页 |
| ·薄膜的物相组成分析 | 第33-35页 |
| ·薄膜试样的 TEM 分析 | 第35-38页 |
| ·薄膜截面的 SEM 分析 | 第38页 |
| ·薄膜的力学行为研究 | 第38-39页 |
| ·薄膜的纳米压入分析 | 第38-39页 |
| ·薄膜层的结合力分析 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 薄膜的电化学性能研究 | 第42-58页 |
| ·本章提要 | 第42页 |
| ·理论基础 | 第42-46页 |
| ·极化曲线分析 | 第42-43页 |
| ·交流阻抗分析 | 第43页 |
| ·空间电荷层电容及 PDM 模型计算 | 第43-46页 |
| ·薄膜的电化学特性 | 第46-57页 |
| ·开路电位（OCP）测试 | 第46-47页 |
| ·低频阻抗-时间测试 | 第47页 |
| ·动电位极化曲线（tafel）测试 | 第47-50页 |
| ·薄膜的钝化膜成分分析 | 第50页 |
| ·电化学阻抗（EIS）测试 | 第50-53页 |
| ·钝化膜电容测量及 Mott-Schottky 分析 | 第53-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 薄膜的高温氧化及磨损性能 | 第58-77页 |
| ·本章提要 | 第58页 |
| ·薄膜等温循环氧化性能分析 | 第58-67页 |
| ·薄膜的氧化动力学曲线分析 | 第58-60页 |
| ·薄膜的氧化产物 XRD 分析 | 第60-64页 |
| ·薄膜的氧化膜截面形貌分析 | 第64-67页 |
| ·薄膜摩擦磨损性能研究 | 第67-75页 |
| ·磨损的分类与机理 | 第67页 |
| ·薄膜的摩擦系数曲线分析 | 第67-69页 |
| ·薄膜的磨痕三维形貌图 | 第69-71页 |
| ·薄膜的磨痕 SEM 形貌分析 | 第71-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 第六章 结论 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 在校期间研究成果及论文发表情况 | 第88页 |