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利用UHV-STM研究Si(5 5 12)表面上In-addimer,Si-addimer相邻位置电子态密度的分布

摘要第1-8页
Abstract第8-12页
插图目录第12-18页
表格目录第18-19页
第一章 引言第19-24页
   ·研究背景第19-20页
   ·Si(5512)表面结构第20-21页
   ·硅表面上制作自组装铟原子结构的研究现状第21-22页
   ·研究目的及意义第22-24页
第二章 超高真空扫描隧道显微镜(UHV-STM)原理及实验方法第24-36页
   ·扫描隧道显微镜的原理与应用第24-30页
   ·实验条件及方法第30-32页
   ·UHV-STM实验室组成第32-36页
第三章 表面上一维原子线电子态密度的分布类型第36-51页
   ·充电对电子态密度有影响第37-38页
   ·温度对电子态密度的影响第38-40页
   ·吸附在表面上的原子的电子态密度分布与基底表面上的原子结构密切相关第40-42页
   ·电子态密度分布与一维原子线上连续排列的悬键个数有关第42-45页
   ·表面缺陷导致电子态密度重新分布第45-46页
   ·电子态密度与一维原子线上原子的位置密切相关第46-51页
第四章 利用UHV-STM研究Si(5512)表面上In-addimer,Si-addimer相邻位置电子态密度的分布第51-61页
   ·Si(5512)上dimer-adatom-row上的Si-addimer及其In-addimer的吸附第51-53页
   ·实验条件及观察方法第53-56页
   ·现象观察及结果分析第56-59页
   ·小结第59-61页
第五章 结论第61-64页
参考文献第64-71页
致谢第71-72页
攻读硕士学位期间发表论文目录第72-73页

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