铜表面复合超输水薄膜的制备及表征
摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-11页 |
第一章 文献综述 | 第11-26页 |
·接触角理论 | 第11-12页 |
·超疏水表面 | 第12-13页 |
·超疏水表面的表征方法简介 | 第13-15页 |
·润湿性表征 | 第13页 |
·表面形态表征 | 第13-14页 |
·表面化学成分分析 | 第14页 |
·表面其他性能分析 | 第14-15页 |
·超疏水表面的制备方法 | 第15-22页 |
·修饰低表面能材料 | 第15-19页 |
·修饰粗糙表面 | 第19-22页 |
·自组装技术 | 第22-25页 |
·自组装分子膜 | 第23页 |
·自组装技术的应用及其研究进展 | 第23-25页 |
·选题依据 | 第25-26页 |
第二章 铜表面纳米自组装薄膜的制备 | 第26-32页 |
·材料与仪器 | 第26页 |
·材料 | 第26页 |
·主要仪器 | 第26页 |
·实验方法 | 第26-27页 |
·溶液配制 | 第26页 |
·基底的前处理 | 第26页 |
·自组装膜的制备 | 第26-27页 |
·结果分析 | 第27-30页 |
·不同处理的基底表面接触角分析 | 第27-29页 |
·自组装膜层数对接触角的影响 | 第29-30页 |
·机理分析 | 第30-31页 |
·小结 | 第31-32页 |
第三章 超疏水膜的制备 | 第32-44页 |
·材料与仪器 | 第32页 |
·实验材料 | 第32页 |
·主要仪器 | 第32页 |
·试验方法 | 第32-33页 |
·溶液的配制及水解 | 第32页 |
·基底预处理 | 第32-33页 |
·MPTS 自组装时间研究 | 第33页 |
·超疏水表面的制备 | 第33页 |
·膜性能检测 | 第33页 |
·结果与分析 | 第33-43页 |
·水解时间及pH 值对硅烷溶液的影响 | 第33-35页 |
·基底表面粗糙度对WCA 的影响 | 第35-36页 |
·OS 溶液pH 值对膜疏水性的影响 | 第36页 |
·OS 溶液水解时间对膜疏水性的影响 | 第36页 |
·自组装时间和固化对MPTS 膜的影响 | 第36-38页 |
·基底预处理对自组装膜的影响 | 第38-39页 |
·超疏水表面性能测试 | 第39-42页 |
·成膜机理探讨 | 第42-43页 |
·小结 | 第43-44页 |
第四章 总结 | 第44-46页 |
·基底的选择与预处理 | 第44页 |
·自组装条件的优化 | 第44页 |
·超疏水膜性能的研究 | 第44-46页 |
参考文献 | 第46-50页 |
致谢 | 第50-51页 |
作者简介 | 第51页 |