摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
1 绪论 | 第11-25页 |
·电镀铬技术 | 第11页 |
·电镀铬的应用 | 第11-12页 |
·电镀铬的替代 | 第12-14页 |
·环境因素的影响 | 第12-13页 |
·影响电镀铬替代进程的相关法律法规 | 第13-14页 |
·电镀铬产业的工业现状 | 第14页 |
·电镀铬的替代技术 | 第14-19页 |
·几种重要的电镀铬替代技术 | 第14-16页 |
·PVD涂层替代电镀铬 | 第16-18页 |
·PVD涂层在工业领域的应用 | 第18-19页 |
·磁控溅射纳米复合以及纳米多层膜 | 第19-23页 |
·磁控溅射技术 | 第19页 |
·多层膜 | 第19-20页 |
·多层膜设计的概念 | 第20-21页 |
·纳米多层膜设计实例 | 第21-23页 |
·论文主旨 | 第23-24页 |
·论文框架 | 第24-25页 |
2 实验设备和方法 | 第25-39页 |
·薄膜合成 | 第25-29页 |
·磁控溅射技术 | 第25-26页 |
·薄膜沉积系统 | 第26-28页 |
·磁控溅射系统的沉积参数 | 第28-29页 |
·确定薄膜沉积的参数 | 第29-31页 |
·薄膜表征技术 | 第31-39页 |
·薄膜的化学成分 | 第31-32页 |
·X射线衍射结构分析 | 第32页 |
·扫描电子显微镜 | 第32页 |
·透射电子显微镜 | 第32-33页 |
·纳米硬度和弹性模量 | 第33-35页 |
·摩擦学性能测试 | 第35-37页 |
·电化学动电位极化测试方法 | 第37-39页 |
3 直流溅射CrN薄膜的研究 | 第39-69页 |
·引言 | 第39-40页 |
·薄膜的制备过程 | 第40-41页 |
·氮气流量对氮化铬薄膜结构和性能的影响 | 第41-52页 |
·"Hysteresis"现象的影响以及沉积参数的选择 | 第41-43页 |
·薄膜的成分和结构 | 第43-46页 |
·薄膜力学性能 | 第46-47页 |
·薄膜摩擦学性能 | 第47-50页 |
·薄膜抗腐蚀性能 | 第50-52页 |
·RF偏压对CrN涂层结构和性能的影响 | 第52-67页 |
·光学发射光谱和等离子体特征 | 第52-56页 |
·OES信号与薄膜成分结构之间的关系 | 第56-59页 |
·薄膜形貌 | 第59-63页 |
·薄膜的力学性能 | 第63页 |
·薄膜的摩擦学性能 | 第63-65页 |
·薄膜的抗腐蚀性能 | 第65-67页 |
·小结 | 第67-69页 |
4 Cr-Zr-N系统中单层和多层薄膜的研究 | 第69-95页 |
·引言 | 第69-70页 |
·薄膜的制备过程 | 第70-71页 |
·Zr改性的CrN薄膜 | 第71-81页 |
·薄膜成分和结构特征 | 第71-75页 |
·CrN(Zr)薄膜的力学性能 | 第75-76页 |
·CrN(Zr)薄膜的摩擦学性能 | 第76-78页 |
·CrN(Zr)薄膜的抗腐蚀性能 | 第78-81页 |
·CrN/ZrN多层膜 | 第81-93页 |
·CrN/ZrN多层膜的微结构特征 | 第81-86页 |
·CrN/ZrN多层膜的力学性能 | 第86-88页 |
·CrN/ZrN多层膜的摩擦学性能 | 第88-91页 |
·CrN/ZrN多层膜的抗腐蚀性能 | 第91-93页 |
·小结 | 第93-95页 |
5 CrN/ZrSiN多层膜的结构和性能 | 第95-111页 |
·引言 | 第95-96页 |
·薄膜的制备 | 第96页 |
·CrN/ZrSiN多层膜 | 第96-109页 |
·ZrSiN和CrN/ZrSiN多层膜结构 | 第96-101页 |
·CrN/ZrSiN多层膜的力学性能 | 第101-106页 |
·CrN/ZrSiN多层膜的摩擦学性能 | 第106-107页 |
·CrN/ZrSiN多层膜的抗腐蚀性能 | 第107-109页 |
·小结 | 第109-111页 |
6 结论与展望 | 第111-115页 |
·结论 | 第111-112页 |
·展望 | 第112-115页 |
参考文献 | 第115-127页 |
攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第127-129页 |
致谢 | 第129-131页 |
作者简介 | 第131-133页 |