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磁控溅射纳米多层膜替代电镀铬涂层的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-11页
1 绪论第11-25页
   ·电镀铬技术第11页
   ·电镀铬的应用第11-12页
   ·电镀铬的替代第12-14页
     ·环境因素的影响第12-13页
     ·影响电镀铬替代进程的相关法律法规第13-14页
     ·电镀铬产业的工业现状第14页
   ·电镀铬的替代技术第14-19页
     ·几种重要的电镀铬替代技术第14-16页
     ·PVD涂层替代电镀铬第16-18页
     ·PVD涂层在工业领域的应用第18-19页
   ·磁控溅射纳米复合以及纳米多层膜第19-23页
     ·磁控溅射技术第19页
     ·多层膜第19-20页
     ·多层膜设计的概念第20-21页
     ·纳米多层膜设计实例第21-23页
   ·论文主旨第23-24页
   ·论文框架第24-25页
2 实验设备和方法第25-39页
   ·薄膜合成第25-29页
     ·磁控溅射技术第25-26页
     ·薄膜沉积系统第26-28页
     ·磁控溅射系统的沉积参数第28-29页
   ·确定薄膜沉积的参数第29-31页
   ·薄膜表征技术第31-39页
     ·薄膜的化学成分第31-32页
     ·X射线衍射结构分析第32页
     ·扫描电子显微镜第32页
     ·透射电子显微镜第32-33页
     ·纳米硬度和弹性模量第33-35页
     ·摩擦学性能测试第35-37页
     ·电化学动电位极化测试方法第37-39页
3 直流溅射CrN薄膜的研究第39-69页
   ·引言第39-40页
   ·薄膜的制备过程第40-41页
   ·氮气流量对氮化铬薄膜结构和性能的影响第41-52页
     ·"Hysteresis"现象的影响以及沉积参数的选择第41-43页
     ·薄膜的成分和结构第43-46页
     ·薄膜力学性能第46-47页
     ·薄膜摩擦学性能第47-50页
     ·薄膜抗腐蚀性能第50-52页
   ·RF偏压对CrN涂层结构和性能的影响第52-67页
     ·光学发射光谱和等离子体特征第52-56页
     ·OES信号与薄膜成分结构之间的关系第56-59页
     ·薄膜形貌第59-63页
     ·薄膜的力学性能第63页
     ·薄膜的摩擦学性能第63-65页
     ·薄膜的抗腐蚀性能第65-67页
   ·小结第67-69页
4 Cr-Zr-N系统中单层和多层薄膜的研究第69-95页
   ·引言第69-70页
   ·薄膜的制备过程第70-71页
   ·Zr改性的CrN薄膜第71-81页
     ·薄膜成分和结构特征第71-75页
     ·CrN(Zr)薄膜的力学性能第75-76页
     ·CrN(Zr)薄膜的摩擦学性能第76-78页
     ·CrN(Zr)薄膜的抗腐蚀性能第78-81页
   ·CrN/ZrN多层膜第81-93页
     ·CrN/ZrN多层膜的微结构特征第81-86页
     ·CrN/ZrN多层膜的力学性能第86-88页
     ·CrN/ZrN多层膜的摩擦学性能第88-91页
     ·CrN/ZrN多层膜的抗腐蚀性能第91-93页
   ·小结第93-95页
5 CrN/ZrSiN多层膜的结构和性能第95-111页
   ·引言第95-96页
   ·薄膜的制备第96页
   ·CrN/ZrSiN多层膜第96-109页
     ·ZrSiN和CrN/ZrSiN多层膜结构第96-101页
     ·CrN/ZrSiN多层膜的力学性能第101-106页
     ·CrN/ZrSiN多层膜的摩擦学性能第106-107页
     ·CrN/ZrSiN多层膜的抗腐蚀性能第107-109页
   ·小结第109-111页
6 结论与展望第111-115页
   ·结论第111-112页
   ·展望第112-115页
参考文献第115-127页
攻读博士学位期间发表学术论文情况第127-129页
致谢第129-131页
作者简介第131-133页

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