摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
第1章 绪论 | 第8-14页 |
·研究的目的和意义 | 第8-10页 |
·国内外研究现状 | 第10-12页 |
·国外研究现状 | 第10-11页 |
·国内研究现状 | 第11-12页 |
·论文研究内容 | 第12-14页 |
第2章 霍尔推力器绝缘壁面鞘层的一维建模 | 第14-21页 |
·引言 | 第14页 |
·鞘层边界条件研究 | 第14-19页 |
·预鞘层存在性 | 第14-17页 |
·鞘层边界条件 | 第17-19页 |
·霍尔推力器壁面鞘层的一维模型 | 第19-20页 |
·控制方程 | 第19页 |
·边界条件 | 第19-20页 |
·本章小结 | 第20-21页 |
第3章 二次电子发射模型研究 | 第21-34页 |
·引言 | 第21页 |
·二次电子发射概率论模型的建模思路 | 第21-22页 |
·思路1 模型存在的不足 | 第21-22页 |
·思路2 模型的优点 | 第22页 |
·模型A1:Morozov 的SEE 模型 | 第22-25页 |
·模型A2:考虑弹性反射效应的SEE 模型 | 第25-27页 |
·模型B:Furman and Piv 的模型 | 第27-32页 |
·不同SEE 模型中BN 材料二次电子发射特性的比较 | 第32-33页 |
·次电子发射系数的比较 | 第32-33页 |
·二次电子能谱的比较 | 第33页 |
·本章小结 | 第33-34页 |
第4章 霍尔推力器绝缘壁面鞘层一维模型的计算方法 | 第34-43页 |
·引言 | 第34页 |
·一维鞘层模型的无量纲化处理 | 第34-35页 |
·Vlasov 方程的计算方法 | 第35-39页 |
·方法一:Cheng 和Knorr 提出的时间分裂格式 | 第36-37页 |
·方法二:基于迎风格式的人工粘性消除方法 | 第37-39页 |
·计算空间划分与时间步长确定 | 第39-42页 |
·计算空间划分 | 第39-40页 |
·时间步长确定 | 第40-42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
第5章 霍尔推力器绝缘壁面鞘层稳定性研究 | 第43-93页 |
·引言 | 第43页 |
·鞘层稳定性的内在机理 | 第43-75页 |
·稳态鞘层中带电粒子的流动规律 | 第43-46页 |
·稳态经典鞘层的存在条件 | 第46-50页 |
·不同SEE 模型下BN 壁面材料经典鞘层稳态解研究 | 第50-73页 |
·二次电子流及其能谱分布对鞘层稳定性的影响 | 第73-75页 |
·霍尔推力器通道内的鞘层特性 | 第75-82页 |
·低温时BN 绝缘壁面鞘层数值模拟 | 第75-79页 |
·电子非Maxwellian 分布下的鞘层特性 | 第79-82页 |
·模型A2 下霍尔推力器壁面鞘层的一维特性分析 | 第82-91页 |
·参数设置 | 第82-83页 |
·鞘层稳态特性分析 | 第83-87页 |
·鞘层的动态特性分析 | 第87-91页 |
·本章小结 | 第91-93页 |
结论 | 第93-95页 |
参考文献 | 第95-99页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第99-101页 |
致谢 | 第101页 |