| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-30页 |
| §1.1 光子晶体 | 第8-19页 |
| §1.1.1 光子晶体的发展 | 第8-10页 |
| §1.1.2 光子晶体的分类及结构 | 第10-12页 |
| §1.1.3 光子晶体的特性及应用 | 第12-16页 |
| §1.1.4 光子晶体的制作方法 | 第16-19页 |
| §1.2 全息光刻工艺的研究进展 | 第19-23页 |
| §1.2.1 全息光刻结合光聚合的微制作技术研究进展 | 第19-21页 |
| §1.2.2 光源和光聚合材料 | 第21-23页 |
| §1.2.2.1 光源及可见光聚合的特点 | 第21-22页 |
| §1.2.2.2 光聚合材料 | 第22-23页 |
| §1.3 软刻蚀技术的发展 | 第23-26页 |
| §1.3.1 软刻蚀技术 | 第23-25页 |
| §1.3.2 PDMS的工作特性 | 第25-26页 |
| §1.4 本论文的选题意义 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-30页 |
| 第二章 全息光刻理论分析及模拟 | 第30-42页 |
| §2.1 全息理论 | 第30-31页 |
| §2.2 光学晶格与波矢构形的关系 | 第31-36页 |
| §2.3 二维正三角形晶格模拟计算 | 第36-37页 |
| §2.4 光束偏振特性的影响及优化选择 | 第37-40页 |
| 参考文献 | 第40-42页 |
| 第三章 实验制备全息光子晶体模板 | 第42-70页 |
| §3.1 实验可行性分析及设计 | 第42-50页 |
| §3.1.1 晶格常数与光束夹角及光源的关系 | 第42-43页 |
| §3.1.2 实验光路设计 | 第43-45页 |
| §3.1.3 实验材料、器材的选择 | 第45-50页 |
| §3.1.3.1 正性光刻胶RZJ-306 | 第46页 |
| §3.1.3.2 负性光刻胶SU8 | 第46-47页 |
| §3.1.3.3 实验器材 | 第47-50页 |
| §3.2 光子晶体模板制备的实验描述及结果 | 第50-67页 |
| §3.2.1 实验流程 | 第50-53页 |
| §3.2.2 二维正三角形光子晶体模板的制作 | 第53-61页 |
| §3.2.3.结合PDMS进行光子晶体模板的压印 | 第61-63页 |
| §3.2.4 基于SU8的二维孔状光子晶体模板的制作 | 第63-65页 |
| §3.2.5 影响模板质量的因素分析 | 第65-67页 |
| §3.3 实验总结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-70页 |
| 第四章 总结与展望 | 第70-72页 |
| §4.1 本文工作总结 | 第70-71页 |
| §4.2 今后工作展望 | 第71-72页 |
| 硕士期间参加科研项目及撰写学术论文 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 附录 | 第74-79页 |