低温纳米热电材料的制备和性能研究
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-9页 |
第1章 绪论 | 第9-22页 |
·研究背景与意义 | 第9-10页 |
·LNG冷能利用 | 第10-12页 |
·温差发电技术 | 第12-13页 |
·热电材料概述 | 第13-20页 |
·热电材料的研究现状 | 第15页 |
·低维热电材料 | 第15-17页 |
·低温区热电材料 | 第17-18页 |
·温差电材料的热电性能参数 | 第18-20页 |
·本课题研究的主要内容及意义 | 第20-22页 |
第2章 薄膜的制备及其结构和性能表征方法 | 第22-32页 |
·引言 | 第22页 |
·热电薄膜材料的制备方法 | 第22-24页 |
·磁控溅射技术制备薄膜材料 | 第24-28页 |
·本课题薄膜制备方法及设备 | 第26-27页 |
·实验基片的选择和处理 | 第27-28页 |
·热电薄膜材料的结构和性能表征 | 第28-31页 |
·材料组织结构表征 | 第28-30页 |
·薄膜的热电性能测试 | 第30-31页 |
·本章小结 | 第31-32页 |
第3章 低温下热电性能测试系统的设计及建立 | 第32-37页 |
·Seebeck系数测试原理 | 第32-33页 |
·电导率测试原理 | 第33页 |
·热电性能测试系统装置的设计 | 第33-35页 |
·热电性能测试系统的应用 | 第35-36页 |
·热电薄膜材料Seebeck电动势的测试 | 第35页 |
·薄膜电导率的测试 | 第35-36页 |
·本章小结 | 第36-37页 |
第4章 Bi/Sb基薄膜热电材料的制备和性能测试 | 第37-55页 |
·引言 | 第37页 |
·薄膜制备一般流程 | 第37-38页 |
·Bi/Sb薄膜材料的制备与成分调制 | 第38-44页 |
·单层Bi薄膜溅射条件的优化 | 第38-42页 |
·单层Sb薄膜溅射条件的优化 | 第42页 |
·Bi/Sb薄膜材料的制备 | 第42-44页 |
·调制比对Bi/Sb薄膜材料性能的影响 | 第44-53页 |
·不同调制比的Bi/Sb纳米多层膜制备 | 第45页 |
·不同调制比的Bi/Sb纳米多层膜的表征 | 第45-50页 |
·不同调制比的Bi/Sb纳米多层膜的热电性能测试 | 第50-53页 |
·本章小结 | 第53-55页 |
第5章 调制周期对Bi/Sb薄膜材料性能的影响 | 第55-62页 |
·不同调制周期的Bi/Sb纳米多层膜制备 | 第55页 |
·薄膜的表征 | 第55-58页 |
·薄膜的热电性能测试 | 第58-60页 |
·本章小结 | 第60-62页 |
第6章 结论与展望 | 第62-64页 |
·总结 | 第62-63页 |
·建议与展望 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-68页 |
致谢 | 第68-69页 |
硕士学位期间已发表的论文及获得的奖励及参加的项目 | 第69页 |