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并矢格林函数对电波暗室的场强分析应用

中文摘要第1-6页
ABSTRACT第6-8页
第8-12页
前言第12-16页
第一章 电波暗室的研究现状和发展动态第16-47页
   ·电波暗室的分类第16-22页
     ·全电波暗室和半电波暗室第17-19页
     ·横电磁波小室(TEM Cell)第19-21页
     ·混响室第21-22页
   ·电波暗室的性能指标以及评测标准第22-31页
     ·电波暗室的性能指标第22-23页
     ·归一化场地衰减第23-26页
     ·场地参考法(Site Reference Method)第26-29页
     ·测试面场均匀性第29页
     ·电波暗室的评测标准第29-31页
   ·吸波材料第31-38页
     ·吸波材料的种类、结构以及性能介绍第32-33页
     ·吸波材料的评估方法第33-37页
     ·吸波材料的仿真研究发展历程第37-38页
   ·不确定度分析第38-45页
     ·不确定度的定义与分类第39-41页
     ·来自电波暗室构造的不确定度第41-42页
     ·辐射发射、抗扰度测试、NSA测试中的不确定度第42-45页
   ·关于静区第45-46页
 本章小结第46-47页
第二章 并矢格林函数法在电磁场上的应用第47-68页
   ·格林函数法第47-50页
   ·并矢形式的麦克斯韦方程组第50-51页
   ·并矢格林函数表示的电磁场普适解第51-55页
   ·并矢格林函数的边界条件和表示方式第55-57页
   ·等效原理的应用以及积分方程的解法第57-58页
   ·镜像法在并矢格林函数中的应用第58-67页
     ·无限大导电平面半空间的并矢格林函数第58-61页
     ·有耗平面半空间的并矢格林函数第61-65页
     ·关于复数反射系数以及复镜像问题的讨论第65-67页
 本章小结第67-68页
第三章 有限周期边界的处理第68-78页
   ·阵列天线的发展历程简介第69-70页
   ·无限大周期边界条件下Floquet Wave与并矢格林函数分析第70-71页
   ·有限周期边界条件下的Floquet Wave阵列分析第71-74页
   ·吸波材料阵列的分析第74-77页
 本章小结第77-78页
第四章 吸波体的反射第78-90页
   ·入射波的设置第78-81页
     ·发射天线水平极化(horizontal polarization)第79-80页
     ·发射天线垂直极化(vertical polarization)第80-81页
   ·吸波材料反射系数的选用标准第81-82页
   ·采用FEM法计算得到的吸波体反射系数第82-88页
     ·不同尺寸的角锥吸波体的反射性能比较第84-85页
     ·角锥顶部削平对于反射性能的影响第85-87页
     ·铁氧体瓦的反射性能第87-88页
   ·空心角锥吸波材料第88-89页
 本章小结第89-90页
第五章 电波暗室内的场强计算第90-119页
   ·电波暗室建模的坐标关系第91-92页
   ·水平极化和垂直极化天线的模拟第92-94页
   ·程序流程和说明第94-97页
   ·模拟半电波暗室测试面场均匀性试验(16个点)第97-104页
       ·采用CFS 450吸波材料第98-101页
       ·采用EMC 2000吸波材料第101-103页
       ·采用铁氧体瓦第103-104页
   ·北交大暗室面场均匀特性的仿真分析与实测比较第104-109页
   ·北交大暗室场地衰减特性的仿真分析与实测比较第109-118页
 本章小结第118-119页
第六章 结论与展望第119-123页
   ·本文工作的回顾和结论第119-121页
   ·值得探讨的问题第121-123页
参考文献第123-135页
致谢第135-136页
作者简历第136-139页
学位论文数据集第139页

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