电子能谱仪样品分析前处理装置的研制及XPS的应用
| 摘要 | 第1-11页 |
| Abstract | 第11-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| ·表面的重要性 | 第13-14页 |
| ·表面分析 | 第14-15页 |
| ·电子能谱—最重要的表面分析方法之一 | 第15-17页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第17-21页 |
| ·基本原理 | 第17-19页 |
| ·仪器装置 | 第19-20页 |
| ·真空系统 | 第20页 |
| ·X 射线源 | 第20页 |
| ·XPS 谱仪新进展 | 第20-21页 |
| ·小面积XPS | 第20页 |
| ·离子束溅射 | 第20-21页 |
| ·荷电控制与校正 | 第21页 |
| ·表面分析前处理 | 第21-22页 |
| ·本文研究的目的及其意义 | 第22-24页 |
| 参考文献 | 第24-25页 |
| 第二章 电子能谱仪样品分析前处理装置的研制 | 第25-38页 |
| ·电子能谱仪的小颗粒样品厌氧进样装置 | 第25-27页 |
| ·EC-UHV 双向转移及其研究系统 | 第27-28页 |
| ·氮气吹淋进样 | 第28-29页 |
| ·电子能谱仪样品分析前处理装置的研制 | 第29-36页 |
| ·装置的结构框图 | 第30-31页 |
| ·装置的工程图 | 第31-32页 |
| ·装置的成品图 | 第32-35页 |
| ·装置的使用说明 | 第35-36页 |
| ·小结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第三章 电子能谱仪样品分析前处理装置的应用 | 第38-56页 |
| ·NiO 样品的XPS 表征 | 第38-39页 |
| ·催化方面的应用 | 第39-49页 |
| ·MoNiP/Al_2O_3催化剂概述 | 第39-40页 |
| ·样品的制备 | 第40页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第40页 |
| ·仪器及测试条件 | 第40页 |
| ·催化剂的XPS 表征 | 第40-46页 |
| ·Mo3d 的XPS 表征 | 第41-43页 |
| ·Ni2p 的XPS 表征 | 第43-45页 |
| ·P2p 的XPS 表征 | 第45-46页 |
| ·硫化态和反应后催化剂的XPS 表征 | 第46-49页 |
| ·电化方面的应用 | 第49-54页 |
| ·锂离子电池概述 | 第49-52页 |
| ·样品的制备 | 第52页 |
| ·仪器及测试条件 | 第52页 |
| ·XPS 表征 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
| 第四章 X 射线光电子能谱的应用 | 第56-83页 |
| ·农膜光转换添加剂的 XPS 剖析 | 第56-63页 |
| ·试样制备 | 第56-57页 |
| ·仪器及测试条件 | 第57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-63页 |
| ·荧光材料的XPS 分析 | 第57-59页 |
| ·荧光材料中的铜价态分析 | 第59-61页 |
| ·荧光材料中铕价态的XPS 分析 | 第61-63页 |
| ·TiO_2薄膜溅射深度分析 | 第63-75页 |
| ·薄膜的制备 | 第63-64页 |
| ·仪器及测试条件 | 第64页 |
| ·XRD 表征 | 第64页 |
| ·XPS 表征 | 第64页 |
| ·结果与讨论 | 第64-75页 |
| ·XRD 表征 | 第64-65页 |
| ·氩离子（Ar~+）溅射条件的选择 | 第65-75页 |
| ·变角XPS 分析超薄膜厚度 | 第75-80页 |
| ·计算原理 | 第76-77页 |
| ·实验 | 第77-79页 |
| ·结果与讨论 | 第79-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-83页 |
| 硕士期间发表论文及专利 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
