摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-9页 |
第一章 绪论 | 第9-19页 |
·选题的背景 | 第9-10页 |
·光整加工技术概述 | 第10-12页 |
·光整加工技术简介 | 第10-11页 |
·光整加工发展及研究现状 | 第11-12页 |
·几种孔表面光整加工方法简介 | 第12-17页 |
·磁性研磨光整加工 | 第12-13页 |
·挤压珩磨 | 第13-15页 |
·磨料射流光整加工 | 第15页 |
·两相流光整加工 | 第15-17页 |
·本论文选题的意义及主要内容 | 第17-19页 |
·本课题的选题意义 | 第17页 |
·本论文的主要内容 | 第17-19页 |
第二章 两相流与螺旋流基本理论 | 第19-25页 |
·两相流的基本理论 | 第19-22页 |
·两相流的定义 | 第19页 |
·两相流的分类 | 第19页 |
·两相流的基本方程 | 第19-20页 |
·两相流的应用 | 第20-22页 |
·螺旋流的基本理论 | 第22-23页 |
·螺旋流定义 | 第22页 |
·螺旋流产生方式 | 第22页 |
·螺旋流的应用 | 第22-23页 |
·本章小结 | 第23-25页 |
第三章 气粒两相强制环流光整加工理论及其单相流数值模拟 | 第25-51页 |
·数值模拟方法简介 | 第25-27页 |
·计算流体力学概述 | 第25页 |
·计算流体力学的步骤 | 第25页 |
·模拟软件简介 | 第25-27页 |
·气粒两相强制环流光整加工方法的提出 | 第27-32页 |
·气粒两相螺旋流光整加工的数值模拟 | 第27-28页 |
·液粒两相强制环流光整加工 | 第28-31页 |
·气粒两相强制环流光整加工方法 | 第31-32页 |
·气粒两相强制环流光整加工的理论分析 | 第32-35页 |
·气粒两相强制环流光整加工的定义 | 第32页 |
·气粒两相强制环流光整加工机理分析 | 第32-35页 |
·气粒两相强制环流光整加工方法的单相流数值模拟 | 第35-39页 |
·建立模型 | 第36-37页 |
·利用Fluent进行模拟 | 第37-39页 |
·不同旋涡头模拟结果的比较 | 第39-49页 |
·对出口是单侧和双侧模型进行比较 | 第39-42页 |
·入口倾斜角度的比较 | 第42-45页 |
·入口数量的研究 | 第45-49页 |
·本章小结 | 第49-51页 |
第四章 气粒两相强制环流光整加工的两相流数值模拟及气粒与液粒两相流的比较 | 第51-65页 |
·气粒两相流数值计算模型 | 第51-52页 |
·粒子运动轨迹比较研究 | 第52-57页 |
·不同粒径磨粒运动轨迹 | 第53页 |
·不同气体入口速度磨粒轨迹 | 第53-56页 |
·不同磨粒数目的轨迹 | 第56-57页 |
·壁面受力比较 | 第57-60页 |
·不同磨粒粒径壁面受力 | 第57-58页 |
·不同气体入口速度壁面受力 | 第58页 |
·不同入口倾角壁面受切向力 | 第58-59页 |
·不同磨粒个数壁面受力 | 第59-60页 |
·气粒两相流与液粒两相流的比较 | 第60-64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
第五章 气粒两相强制环流光整加工实验装置的设计及实验研究 | 第65-83页 |
·气粒两相强制环流发生装置的设计 | 第65-73页 |
·旋涡头的设计 | 第65-68页 |
·轴向移动装置设计 | 第68-72页 |
·工件支撑的设计 | 第72页 |
·磨粒的选择 | 第72-73页 |
·装置的连接 | 第73-76页 |
·进行实验 | 第76-82页 |
·本章小结 | 第82-83页 |
第六章 结论与展望 | 第83-85页 |
·结论 | 第83页 |
·展望 | 第83-85页 |
参考文献 | 第85-89页 |
致谢 | 第89-90页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第90页 |