WO3制备超细钨粉的研究
摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-11页 |
目录 | 第11-13页 |
第一章 绪论 | 第13-15页 |
第二章 文献综述 | 第15-37页 |
·钨及其化合物的性质 | 第15-17页 |
·钨的物理、化学性质 | 第15-17页 |
·钨的主要化合物及其性质 | 第17页 |
·WO_3的特性与制取 | 第17-19页 |
·氢还原 WO_3的理论基础 | 第19-25页 |
·钨氧化物还原体系 | 第19-20页 |
·氢还原WO_3的热力学 | 第20-22页 |
·反应的机理及影响还原机理的因素 | 第22-25页 |
·工业钨粉的生产方法 | 第25-26页 |
·超细金属钨粉制备方法的研究进展 | 第26-34页 |
·高能球磨法 | 第27-28页 |
·气体蒸发法 | 第28-29页 |
·等离子体法 | 第29页 |
·自蔓延高温还原法 | 第29-30页 |
·熔盐电解法 | 第30-32页 |
·氧化钨粉还原法 | 第32-34页 |
·本章小结 | 第34-35页 |
·本课题主要研究目的与意义 | 第35-37页 |
第三章 研究方案与实验材料、设备 | 第37-41页 |
·研究方案及路线 | 第37页 |
·实验材料与设备 | 第37-41页 |
·原料技术条件 | 第37-38页 |
·辅助原料技术条件 | 第38-39页 |
·实验设备 | 第39页 |
·检测设备 | 第39-41页 |
第四章 三氧化钨氧化—还原法制备超细钨粉的研究 | 第41-58页 |
·原料准备—三氧化钨的制备 | 第41-42页 |
·试验工艺条件及步骤 | 第42-43页 |
·试验结果与分析 | 第43-55页 |
·XRD分析 | 第43-45页 |
·粒度与颗粒形貌分析 | 第45-54页 |
·关于团聚现象的分析 | 第54-55页 |
·氧化-还原法制备超细钨粉机理探讨 | 第55-57页 |
·本章小结 | 第57-58页 |
第五章 三氧化钨还原过程动力学研究 | 第58-69页 |
·试验准备 | 第58-60页 |
·原料与设备 | 第58页 |
·理论基础 | 第58-60页 |
·实验步骤 | 第60-62页 |
·由WO_3粉还原到WO__(2.90)粉的过程 | 第60-61页 |
·由WO_(2.90)粉还原到W粉的过程 | 第61-62页 |
·试验结果与分析 | 第62-67页 |
·由WO_3粉还原到WO_(2.90)粉的过程 | 第62-64页 |
·由WO_(2.90)粉还原到W粉的过程 | 第64-67页 |
·三氧化钨氢还原反应速度的影响因素分析 | 第67页 |
·本章小结 | 第67-69页 |
第六章 结论与前景展望 | 第69-71页 |
·结论 | 第69-70页 |
·前景展望 | 第70-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-78页 |
附录 原料与产物粉体的激光粒度数据 | 第78-81页 |
攻读硕士研究生期间发表的学术论文 | 第81页 |