| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-17页 |
| 第一章 文献综述 | 第17-46页 |
| ·研究背景 | 第17-18页 |
| ·等离子体的概述 | 第18-22页 |
| ·等离子体的分类 | 第18-19页 |
| ·等离体的诊断技术 | 第19-20页 |
| ·等离子体的应用 | 第20-22页 |
| ·氮化钛陶瓷材料的研究与发展 | 第22-30页 |
| ·氮化钛的结构与性能 | 第22-25页 |
| ·氮化钛的形成方法及存在的问题 | 第25-29页 |
| ·氮化钛陶瓷涂层研究新进展 | 第29-30页 |
| ·双辉等离子渗金属技术的研究发展 | 第30-35页 |
| ·双辉等离子渗金属的基本原理 | 第30-31页 |
| ·双辉等离子渗金属的特点 | 第31-32页 |
| ·双辉等离子渗金属的物理基础 | 第32-33页 |
| ·双辉等离子渗金属技术研究进展 | 第33-35页 |
| ·本课题的提出、目的和意义 | 第35-36页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-46页 |
| 第二章 制备氮化钛渗镀复合层工艺设计 | 第46-56页 |
| ·前言 | 第46页 |
| ·试验材料 | 第46-47页 |
| ·基体材料 | 第46-47页 |
| ·源极材料 | 第47页 |
| ·试验气体 | 第47页 |
| ·试验设备及操作过程 | 第47-50页 |
| ·试验设备 | 第47页 |
| ·试验布置 | 第47-49页 |
| ·试验操作 | 第49-50页 |
| ·制备氮化钛渗镀复合层试样的工艺方案 | 第50-51页 |
| ·研究思路 | 第50-51页 |
| ·工艺参数选择范围 | 第51页 |
| ·PVD沉积层的制备 | 第51-53页 |
| ·PVDTiN薄膜的制备 | 第52页 |
| ·PVDTiB_2薄膜的制备 | 第52-53页 |
| ·性能检测方法 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
| 第三章 氮化钛渗镀复合层工艺优化及组织结构的研究 | 第56-83页 |
| ·前言 | 第56页 |
| ·氮化钛渗镀复合层工艺的优化 | 第56-61页 |
| ·前期渗钛工艺的确定 | 第56-58页 |
| ·后期渗镀温度对氮化钛渗镀复合层颜色的影响 | 第58-59页 |
| ·后期渗镀时间对氮化钛渗镀复合层颜色的影响 | 第59-60页 |
| ·后期氩氮流量比对氮化钛渗镀复合层颜色的影响 | 第60-61页 |
| ·氮化钛渗镀复合层表面形貌、成分和组织结构 | 第61-71页 |
| ·氮化钛渗镀复合层的表面形貌 | 第61-64页 |
| ·氮化钛渗镀复合层的致密度 | 第64-67页 |
| ·氮化钛渗镀复合层的成分分布 | 第67-69页 |
| ·氮化钛渗镀复合层的相结构 | 第69-71页 |
| ·氮化钛渗镀复合层的性能 | 第71-74页 |
| ·硬度检测 | 第71页 |
| ·结合强度 | 第71-74页 |
| ·辉光等离子体中钛元素与离子轰击行为 | 第74-80页 |
| ·钛元素的渗入特点 | 第74-75页 |
| ·离子的轰击行为 | 第75-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-83页 |
| 第四章 氮化钛渗镀复合层的摩擦学性能研究 | 第83-102页 |
| ·前言 | 第83页 |
| ·试验方法 | 第83-85页 |
| ·磨损试样的准备 | 第83页 |
| ·干摩擦条件下的摩擦磨损性能试验 | 第83-84页 |
| ·有润滑条件下的摩擦磨损性能试验 | 第84-85页 |
| ·性能检测 | 第85页 |
| ·试验结果及分析 | 第85-95页 |
| ·复合沉积层膜厚形貌 | 第85-86页 |
| ·复合沉积层成分分布 | 第86-88页 |
| ·各种氮化钛沉积层的硬度 | 第88页 |
| ·干摩擦条件下氮化钛复合渗镀层的摩擦学性能 | 第88-91页 |
| ·有润滑条件下氮化钛复合渗镀层的摩擦学性能 | 第91-95页 |
| ·摩擦磨损形貌及磨损机理分析 | 第95-100页 |
| ·干摩擦条件下的磨损分析 | 第95-98页 |
| ·有润滑条件下的磨损分析 | 第98-100页 |
| ·本章小结 | 第100-101页 |
| 参考文献 | 第101-102页 |
| 第五章 氮化钛渗镀复合层耐腐蚀性能的研究 | 第102-121页 |
| ·前言 | 第102页 |
| ·试验方法 | 第102-104页 |
| ·试验装置及方法 | 第102-103页 |
| ·试样准备及形貌观察 | 第103页 |
| ·腐蚀电流和腐蚀速度的计算 | 第103-104页 |
| ·电化学腐蚀试验结果及分析 | 第104-116页 |
| ·氮化钛渗镀复合层在硫酸溶液中的耐腐蚀性能 | 第104-108页 |
| ·氮化钛渗镀复合层在海水中的耐腐蚀性能 | 第108-112页 |
| ·氮化钛渗镀复合层在盐酸溶液中的耐腐蚀性能 | 第112-114页 |
| ·氮化钛渗镀复合层在PH10碱溶液中的耐腐蚀性能 | 第114-116页 |
| ·浸泡腐蚀试验结果 | 第116-119页 |
| ·本章小结 | 第119-120页 |
| 参考文献 | 第120-121页 |
| 第六章 辉光渗金属技术中等离子体特征及放电特性的研究 | 第121-147页 |
| ·前言 | 第121页 |
| ·辉光等离子体测试设备 | 第121-122页 |
| ·辉光等离子体的放电特性 | 第122-133页 |
| ·试验方案 | 第122-123页 |
| ·典型工艺放电特征 | 第123-125页 |
| ·辉光等离子体的阴极位降区 | 第125-133页 |
| ·辉光等离子体中电子温度的分布 | 第133-144页 |
| ·电子温度测量位置 | 第134-136页 |
| ·电子温度的计算 | 第136-139页 |
| ·不等电位电子温度结果及讨论 | 第139-142页 |
| ·等电位电子温度结果及分析 | 第142-144页 |
| ·本章小结 | 第144-146页 |
| 参考文献 | 第146-147页 |
| 第七章 辉光等离子体中空心阴极效应的电子密度分布 | 第147-167页 |
| ·前言 | 第147页 |
| ·电子密度的测量位置 | 第147页 |
| ·电子密度测量的可行性及误差分析 | 第147-155页 |
| ·用谱线斯塔克展宽测量电子密度Ne的可行性及谱线选定 | 第148-150页 |
| ·波长测量谱图中的H_β线的确定 | 第150-154页 |
| ·H_β线半高宽度的确定 | 第154-155页 |
| ·电子密度测量结果及分析 | 第155-159页 |
| ·平板源极电子密度结果及分析 | 第157-159页 |
| ·针束状源极电子密度结果及分析 | 第159页 |
| ·辉光空心阴极效应的分析与讨论 | 第159-164页 |
| ·辉光等电位等离子体中Ne偏高的原因分析 | 第159-164页 |
| ·空心阴极效应在辉光等离子体中的作用 | 第164页 |
| ·本章小结 | 第164-166页 |
| 参考文献 | 第166-167页 |
| 第八章 结论 | 第167-170页 |
| 论文独创性说明 | 第170-171页 |
| 攻读博士期间发表的研究论文及科研成果 | 第171-175页 |
| 致谢 | 第175页 |