| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 1 导论 | 第9-17页 |
| ·镁合金表面处理发展趋势 | 第9-11页 |
| ·微等离子体氧化技术的研究历史及现状 | 第11-12页 |
| ·微等离子体氧化技术的基本原理及工艺特点 | 第12-14页 |
| ·微等离子体氧化陶瓷膜的性能特点 | 第14-15页 |
| ·微等离子体氧化技术的应用领域 | 第15页 |
| ·本课题研究的意义、目的及内容 | 第15-17页 |
| ·本课题研究的意义 | 第15-16页 |
| ·本课题研究的目的 | 第16页 |
| ·本课题研究的内容 | 第16-17页 |
| 2 试验材料、装置及方法 | 第17-24页 |
| ·试验材料 | 第17-18页 |
| ·试验材料的化学成分 | 第17页 |
| ·试样尺寸 | 第17页 |
| ·试样的制备 | 第17-18页 |
| ·试验装置 | 第18页 |
| ·试验方法 | 第18-22页 |
| ·试验工艺 | 第18-20页 |
| ·耐腐蚀性评价方法 | 第20-22页 |
| ·电解液性质的检测 | 第22-23页 |
| ·膜层质量及结构的检测 | 第23-24页 |
| 3 试验研究 | 第24-57页 |
| ·本课题技术实施路线 | 第24页 |
| ·电解液配方的研究及优化 | 第24-25页 |
| ·交/直流电源对膜层生长速度、质量的对比分析 | 第25-32页 |
| ·膜层生长速度与能耗的对比分析 | 第25-27页 |
| ·膜层质量的对比分析 | 第27-30页 |
| ·交/直流不同电源条件下陶瓷膜SEM 结构的对比与分析 | 第30-32页 |
| ·陶瓷膜XRD 相对比分析 | 第32页 |
| ·恒定电流密度下陶瓷膜生长速度及质量的研究 | 第32-38页 |
| ·电流密度对陶瓷膜生长速度的影响 | 第33-35页 |
| ·电流密度对陶瓷膜质量的影响 | 第35-36页 |
| ·不同电流密度下陶瓷膜SEM 结构分析 | 第36-38页 |
| ·恒定电压对陶瓷膜生长速度及膜层质量的影响 | 第38-43页 |
| ·恒定电压对陶瓷膜生长速度的影响 | 第38-40页 |
| ·恒压下陶瓷膜质量的分析 | 第40-42页 |
| ·不同电压下陶瓷膜SEM 结构分析 | 第42-43页 |
| ·电解液温度对膜层生长速度及质量的影响 | 第43-48页 |
| ·电解液温度对陶瓷膜生长速度的影响 | 第43-45页 |
| ·电解液温度对陶瓷层耐蚀性的影响 | 第45-46页 |
| ·不同温度下陶瓷膜的SEM 结构分析 | 第46-48页 |
| ·电导率对陶瓷摸生长速度及质量的影响 | 第48-51页 |
| ·电导率对陶瓷摸生长速度及质量的影响 | 第48-49页 |
| ·溶液电导率对陶瓷层耐蚀性的影响 | 第49-50页 |
| ·不同电导率下陶瓷膜SEM 结构分析 | 第50-51页 |
| ·溶液pH 值对陶瓷膜生成的影响 | 第51页 |
| ·提高陶瓷膜耐腐蚀性能的措施 | 第51-55页 |
| ·小节 | 第55-57页 |
| 4 讨论 | 第57-67页 |
| ·微等离子体氧化陶瓷膜的生长过程及其结构讨论 | 第57-61页 |
| ·陶瓷膜生长过程的讨论 | 第57-59页 |
| ·陶瓷膜微观结构的讨论 | 第59-61页 |
| ·微等离子体氧化陶瓷膜的腐蚀机理 | 第61-63页 |
| ·电解液失效的讨论 | 第63-67页 |
| ·电解液失效的试验现象 | 第63-64页 |
| ·电解液失效的原因 | 第64-67页 |
| 5 结论与展望 | 第67-69页 |
| ·结论 | 第67-68页 |
| ·展望 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 附:攻读硕士期间发表的论文 | 第73-74页 |
| 独创性声明 | 第74页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第74页 |