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电参数对镁合金微弧氧化膜层的显微结构和耐蚀性能的影响

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
1 绪论第8-13页
   ·引言第8-9页
   ·镁合金微弧氧化表面处理第9-12页
   ·本课题的主要目的和研究内容第12-13页
2 试验条件和方法第13-16页
   ·试验材料第13-14页
   ·试验装置第14-15页
   ·膜层制备方案第15页
   ·膜层的显微结构分析和性能检测方法第15-16页
3 微弧氧化过程中电参数的变化规律第16-19页
   ·恒流供电时的电压的变化第16-17页
   ·恒压供电的电流变化第17-19页
4 微弧氧化的火花形态特征第19-23页
   ·火花形态特征及其变化第19-22页
   ·火花形态与电参数的关系第22-23页
5 电参数对膜层结构的影响第23-43页
   ·电参数对膜层厚度的影响第23-30页
     ·恒流供电时的膜层厚度变化第23-27页
     ·恒压供电时的膜层厚度变化第27-28页
     ·占空比和频率分别对膜层厚度的影响第28-30页
   ·电参数对膜层结构的影响第30-33页
   ·电参数作用下的膜层相组成及其元素分布第33-36页
   ·电参数对膜层孔隙率和表面粗糙度的影响第36-40页
   ·电参数对膜层表面状态的影响第40-43页
6 电参数对膜层耐蚀性能的影响第43-48页
   ·处理时间对耐蚀性的影响第43-44页
   ·电压对耐蚀性的影响第44-45页
   ·频率和占空比对耐蚀性的影响第45-48页
结论第48-49页
致谢第49-50页
参考文献第50-54页
附录 攻读硕士学位期间发表的论文第54页

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