电沉积制备CuInSe2和Cu（In，Ga）Se2薄膜及性能表征
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-27页 |
| ·CIS和CIGS薄膜的发展现状 | 第9-17页 |
| ·课题研究的目的及意义 | 第9-12页 |
| ·国内外研究现状 | 第12-14页 |
| ·目前研究存在的问题 | 第14-17页 |
| ·材料内部结构的影响 | 第14-15页 |
| ·衬底温度对薄膜结构的影响 | 第15-16页 |
| ·掺镓的困难 | 第16页 |
| ·沉积电位的影响 | 第16-17页 |
| ·CIS和CIGS薄膜的制备技术 | 第17-26页 |
| ·Cu-In合金膜硒化法 | 第17-18页 |
| ·真空蒸镀法 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射法 | 第19-20页 |
| ·分子束外延技术 | 第20-21页 |
| ·喷涂热解法 | 第21页 |
| ·Sol-Gel法 | 第21-22页 |
| ·电沉积方法 | 第22-26页 |
| ·选题目的及研究内容 | 第26-27页 |
| 第2章 实验过程与测试分析 | 第27-36页 |
| ·实验过程 | 第27-31页 |
| ·衬底材料的选择 | 第27-28页 |
| ·衬底的清洗 | 第28页 |
| ·Mo薄膜的制备 | 第28-29页 |
| ·电沉积制备CIS和CIGS薄膜的实验分析与设计 | 第29-30页 |
| ·电沉积薄膜的制备 | 第30-31页 |
| ·薄膜的热处理 | 第31页 |
| ·薄膜的性能表征 | 第31-36页 |
| ·Mo薄膜方块电阻测试 | 第32页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第32页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第32页 |
| ·能谱仪(EDS)分析 | 第32页 |
| ·薄膜的紫外-可见光谱测试 | 第32页 |
| ·薄膜厚度测试 | 第32-33页 |
| ·禁带宽度计算的理论分析 | 第33-34页 |
| ·薄膜电学性能测试 | 第34-36页 |
| 第3章 Mo薄膜的性能分析 | 第36-41页 |
| ·Mo薄膜表面电阻 | 第36-37页 |
| ·Mo薄膜的反射率 | 第37-38页 |
| ·Mo薄膜的X射线衍射图样及分析 | 第38页 |
| ·Mo薄膜的表面形貌及分析 | 第38-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 第4章 电沉积制备CIS薄膜及性能分析 | 第41-56页 |
| ·沉积电位对制备ClS薄膜的影响 | 第41-45页 |
| ·450℃硒化退火后CIS薄膜的化学组成分析 | 第41-42页 |
| ·CIS薄膜的XRD图谱及分析 | 第42-43页 |
| ·硒化退火后CIS薄膜的表面形貌及分析 | 第43-44页 |
| ·CIS薄膜电学性能 | 第44页 |
| ·CIS薄膜光学性能 | 第44-45页 |
| ·电解质浓度对CIS薄膜的影响 | 第45-51页 |
| ·450℃硒化退火理后CIS薄膜的化学组成分析 | 第45-47页 |
| ·热处理后CIS薄膜的晶体结构分析 | 第47页 |
| ·热处理后CIS薄膜形貌分析 | 第47-49页 |
| ·CIS薄膜电学性能 | 第49-50页 |
| ·CIS薄膜光学性能 | 第50-51页 |
| ·柠檬酸钠的浓度对CIS薄膜的影响 | 第51-55页 |
| ·不同柠檬酸钠浓度下硒化退火后CIS薄膜的EDS | 第51-52页 |
| ·不同柠檬酸浓度条件下CIS薄膜的X射线衍射谱 | 第52-53页 |
| ·柠檬酸钠浓度对CIS薄膜形貌的影响 | 第53-54页 |
| ·柠檬酸钠浓度对CIS薄膜电学性能的影响 | 第54页 |
| ·CIS薄膜的光学性能 | 第54-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 第5章 电沉积制备CIGS薄膜及性能分析 | 第56-72页 |
| ·电解质浓度对CIGS薄膜的影响 | 第56-62页 |
| ·硒化退火后CIGS薄膜的组成 | 第56-57页 |
| ·CIGS薄膜的XRD衍射图样及分析 | 第57-58页 |
| ·硒化退火后CIGS薄膜的形貌分析 | 第58-60页 |
| ·CIGS薄膜电学性能 | 第60-61页 |
| ·CIGS薄膜光学性能 | 第61-62页 |
| ·柠檬酸钠的浓度对CIGS薄膜的影响 | 第62-66页 |
| ·柠檬酸钠的浓度对CIGS薄膜组成的影响 | 第62页 |
| ·柠檬酸钠的浓度对CIGS薄膜晶体结构的影响 | 第62-63页 |
| ·柠檬酸钠浓度对CIGS薄膜表面形貌的影响 | 第63-65页 |
| ·柠檬酸钠浓度对CIGS薄膜电学性能的影响 | 第65-66页 |
| ·CIGS薄膜光学性能 | 第66页 |
| ·热处理对电沉积制备CIGS薄膜的影响 | 第66-71页 |
| ·热处理后CIGS薄膜的化学组成分析 | 第66-67页 |
| ·热处理对CIGS薄膜的晶体结构的影响 | 第67-68页 |
| ·热处理对CIGS薄膜表面形貌的影响 | 第68-69页 |
| ·热处理对CIGS薄膜电学性能的影响 | 第69-70页 |
| ·CIGS薄膜光学性能测试 | 第70-71页 |
| ·小结 | 第71-72页 |
| 第6章 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 附录：攻读硕士期间发表的论文 | 第78页 |
