摘要 | 第1-5页 |
英文摘要 | 第5-7页 |
目录 | 第7-9页 |
前言 | 第9-20页 |
·概述 | 第9-12页 |
·ZnO材料的基本特性 | 第12-13页 |
·ZnO的研究进展 | 第13-18页 |
·ZnO:Al纳米薄膜材料的研究概况 | 第18-20页 |
第二章 电子束蒸发设备和表征方法简介 | 第20-33页 |
·电子束蒸发设备简介及原理 | 第20-22页 |
·热退火装置的结构 | 第22-23页 |
·X射线衍射原理 | 第23-25页 |
·微区光致发光光谱仪的结构及原理 | 第25-27页 |
·Van der Pauw法测试原理及试验装置 | 第27-33页 |
第三章 电子束蒸发制备的ZnO:Al纳米薄膜的结构及光学性质研究 | 第33-40页 |
·ZnO:Al纳米薄膜的制备过程 | 第33页 |
·ZnO:Al纳米薄膜的结构特征 | 第33-35页 |
·ZnO:Al纳米薄膜的光学特性 | 第35-40页 |
·室温光致发光分析 | 第35-37页 |
·低温光致发光分析 | 第37-40页 |
第四章 电子束蒸发制备的ZnO:Al纳米薄膜的电学性质研究 | 第40-43页 |
·ZnO:Al纳米薄膜的电导率、霍尔迁移率和载流子浓度分析 | 第40-41页 |
·退火对ZnO:Al纳米薄膜电学性质的影响 | 第41-43页 |
结论 | 第43-44页 |
参考文献 | 第44-47页 |
硕士期间发表的论文 | 第47-48页 |
致谢 | 第48页 |