| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-18页 |
| ·VO_2的原子结构 | 第8-9页 |
| ·VO_2的性质 | 第9-11页 |
| ·二氧化矾的应用 | 第11-12页 |
| ·二氧化钒薄膜的制备方法 | 第12-14页 |
| ·二氧化矾薄膜研究进展 | 第14-16页 |
| ·本论文的研究内容及目的 | 第16-18页 |
| 第二章 二氧化钒薄膜的制备和测试 | 第18-23页 |
| ·直流、射频磁控溅射设备简介 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射的实验原理及操作 | 第19-20页 |
| ·样品制备的工艺过程 | 第20-21页 |
| ·薄膜测试的仪器和方法 | 第21-23页 |
| 第三章 不同衬底材料上制备的VO_2薄膜相变前后光学特性研究 | 第23-32页 |
| ·引言 | 第23-24页 |
| ·实验 | 第24-25页 |
| ·实验的结果与讨论 | 第25-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 非理想配比对VO_2薄膜喇曼散射的影响 | 第32-37页 |
| ·引言 | 第32-33页 |
| ·实验 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第五章 PcNi-VO_2复合膜相变前后光学特性研究 | 第37-43页 |
| ·引言 | 第37-38页 |
| ·实验 | 第38-39页 |
| ·实验的结果与讨论 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第六章 结论 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-49页 |
| 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |