第一章 文献综述 | 第1-23页 |
第一部分 微波法合成硫脲树脂及其吸附性能的研究 | 第11-16页 |
·微波辐射技术在化学领域中的应用 | 第11-13页 |
·引言 | 第11页 |
·微波加热原理概述 | 第11-12页 |
·微波技术在高分子科学方面的应用 | 第12-13页 |
·含硫螯合树脂进展综述 | 第13-16页 |
·含硫螯合树脂的分类及制备 | 第13-14页 |
·含硫螯合树脂的应用 | 第14-15页 |
·含硫螯合树脂的结构表征 | 第15页 |
·含硫螯合树脂的特点及存在的问题 | 第15-16页 |
第二部分 原子转移自由基聚合合成新型功能高分子材料 | 第16-23页 |
·原子转移自由基聚合(ATRP)概述 | 第16-18页 |
·引言 | 第16页 |
·原子转移自由基聚合反应的机理 | 第16-17页 |
·ATRP技术在新型高分子材料合成中的应用 | 第17-18页 |
·ATRP新技术特点及市场前景 | 第18页 |
·8-羟基喹啉的高分子化及其应用 | 第18-20页 |
·简介 | 第18-19页 |
·8-羟基喹啉的高分子化方法 | 第19页 |
·高分子化8-羟基喹啉在新兴研究领域的应用及其展望 | 第19-20页 |
·稀土高分子配合物 | 第20-23页 |
·简介 | 第20-21页 |
·稀土与高分子链直接键合成稀土高分子的三种途径 | 第21页 |
·稀土高分子配合物的主要性质 | 第21-23页 |
第二章 本论文研究的目的和意义 | 第23-25页 |
第三章 实验和分析方法 | 第25-29页 |
·主要原料 | 第25页 |
·反应装置和设备 | 第25-26页 |
·聚合物表征 | 第26-27页 |
·实验步骤 | 第27-29页 |
·微波辐射条件下硫脲-二卤代烃的聚合 | 第27页 |
·常规加热条件下硫脲-二卤代烃的聚合 | 第27页 |
·微波辐射条件下硫脲-甲醛-对苯二酚的共聚 | 第27页 |
·常规加热条件下硫脲-甲醛-对苯二酚的共聚 | 第27页 |
·氯甲基化8-羟基喹啉的合成 | 第27页 |
·氯甲基化的8-羟基喹啉作为引发剂引发甲基丙烯酸甲酯和苯乙烯的ATRP反应 | 第27页 |
·高分子化的8-羟基喹啉与稀土金属的配位 | 第27-28页 |
·EDTA滴定高分子络合物中稀土离子的含量 | 第28-29页 |
第四章 实验结果与讨论 | 第29-56页 |
·微波辐射条件下硫脲、二卤代烃的反应及产物吸附性能测试 | 第29-35页 |
·结构分析 | 第29-30页 |
·原料配比对产物吸附量的影响 | 第30页 |
·微波辐射时间对产物吸附量的影响 | 第30-31页 |
·微波辐射温度对产物产率及吸附量的影响 | 第31-32页 |
·碱性物质的用量对产物吸附量的影响 | 第32页 |
·PH值对树脂吸附不同金属离子能力的影响 | 第32-33页 |
·粒径大小对树脂吸附量的影响 | 第33页 |
·吸附时间对树脂吸附量的影响 | 第33-34页 |
·溶液中离子浓度对树脂吸附能力的影响 | 第34页 |
·树脂重复使用的测试 | 第34-35页 |
·微波辐射条件下硫脲、甲醛、对苯二酚树脂的合成及其吸附性能研究 | 第35-41页 |
·硫脲、甲醛、对苯二酚树脂结构分析 | 第35-36页 |
·微波辐射与常规加热对树脂产率影响 | 第36页 |
·微波辐射时间对树脂产率和吸附量的影响 | 第36-37页 |
·原料配比对产物吸附量的影响 | 第37页 |
·酸性条件对树脂吸附能力的影响 | 第37-38页 |
·对苯二酚用量对产物吸附率的影响 | 第38-39页 |
·溶液中离子浓度对树脂吸附能力的影响 | 第39页 |
·粒径大小对树脂吸附量的影响 | 第39-40页 |
·吸附时间对树脂吸附量的影响 | 第40页 |
·树脂重复使用的测试 | 第40-41页 |
·氯苄基化的8-羟基喹啉引发MMA的ATRP反应及其产物性能研究 | 第41-48页 |
·MMA活性聚合特征的确定 | 第41-44页 |
·端基分析 | 第44页 |
·PMMA-CH_2Q的荧光性能研究 | 第44-45页 |
·PMMA-CH_2Q三阶非线性性能的测试 | 第45-48页 |
·氯苄基化的8-羟基喹啉引发St的ATRP反应及其产物性能研究 | 第48-56页 |
·St活性聚合特征的确定 | 第48-50页 |
·端基分析 | 第50-51页 |
·PSt-CH_2Q与稀土离子的络合及其产物性能的测试 | 第51-52页 |
·PSt-CH_2Q的荧光性能研究 | 第52-53页 |
·PSt-CH_2Q三阶非线性性能的测试 | 第53-56页 |
第五章 结论与展望 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-64页 |
文章录用和发表 | 第64-65页 |
致谢 | 第65-66页 |
附录 | 第66-69页 |