| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第一章 前言 | 第11-13页 |
| 第二章 文献综述 | 第13-38页 |
| ·锌、镉简介 | 第13-14页 |
| ·ZnO晶体的结构和性能 | 第14-16页 |
| ·CdO晶体的结构和性能 | 第16-18页 |
| ·Zn_(1-x)Cd_xO薄膜的研究现状 | 第18-20页 |
| ·ZnO和CdO及合金半导体的能带 | 第20-28页 |
| ·ZnO／Zn_(1-x)Cd_xO薄膜的制备技术 | 第28-30页 |
| ·本课题的研究构思 | 第30-32页 |
| 参考文献 | 第32-38页 |
| 第三章 实验原理和实验过程 | 第38-47页 |
| ·直流反应磁控溅射原理 | 第38-43页 |
| ·ZnCdO薄膜制备过程 | 第43-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第四章 生长参数对Zn_(1-x)Cd_xO薄膜的影响 | 第47-58页 |
| ·影响薄膜结晶质量的主要因素 | 第47-49页 |
| ·衬底温度对Zn_(1-x)Cd_xO薄膜结晶质量的影响 | 第49-54页 |
| ·溅射功率对Zn_(1-x)Cd_xO薄膜结晶质量的影响 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第五章 Zn_(1-x)Cd_xO薄膜性能随组分变化规律 | 第58-81页 |
| ·Zn_(1-x)Cd_xO薄膜的组成及各元素电子态测定 | 第58-62页 |
| ·组分对Zn_(1-x)Cd_xO薄膜晶体结构的影响 | 第62-64页 |
| ·Zn_(1-x)Cd_xO三元合金薄膜能带工程 | 第64-70页 |
| ·Zn_(1-x)Cd_xO薄膜的微结构和生长机制 | 第70-74页 |
| ·Zn_(1-x)Cd_xO薄膜的电学性能 | 第74-77页 |
| ·Zn_(1-x)Cd_xO薄膜组成随深度分布 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78页 |
| 参考文献 | 第78-81页 |
| 第六章 Zn_(1-x)Cd_xO薄膜性能的进一步研究 | 第81-93页 |
| ·不同衬底对Zn_(1-x)Cd_xO薄膜结晶质量的影响 | 第81-83页 |
| ·薄膜带隙随组成的变化规律 | 第83-86页 |
| ·室温光致发光性能 | 第86-88页 |
| ·电学性能 | 第88-89页 |
| ·表面特性 | 第89-90页 |
| ·本章小结 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-93页 |
| 第七章 退火对Zn_(1-x)Cd_xO薄膜性能的影响 | 第93-108页 |
| ·退火温度的选择 | 第93-97页 |
| ·退火对Zn_(1-x)Cd_xO薄膜性能的影响 | 第97-105页 |
| ·退火时间和退火气氛对Zn_(1-x)Cd_xO薄膜结晶质量的影响 | 第105-107页 |
| ·本章小结 | 第107页 |
| 参考文献 | 第107-108页 |
| 第八章 总结和展望 | 第108-113页 |
| 总结 | 第108-110页 |
| Zn_(1-x)Cd_xO合金薄膜的应用前瞻 | 第110-113页 |
| 致谢 | 第113-114页 |
| 附: 作者博士期间发表和撰写的论文 | 第114-115页 |
