摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-13页 |
第一章 绪论 | 第13-27页 |
·引言 | 第13页 |
·介孔材料的分类 | 第13-16页 |
·介孔二氧化硅 | 第14页 |
·介孔金属氧化物 | 第14-15页 |
·介孔碳 | 第15-16页 |
·介孔磷酸盐 | 第16页 |
·介孔金属 | 第16页 |
·介孔材料的合成过程 | 第16-19页 |
·硬模板法 | 第17页 |
·软模板法 | 第17-19页 |
·离子路线 | 第18-19页 |
·混合表面活性剂合成路线 | 第19页 |
·非离子路线 | 第19页 |
·有机金属表面活性剂合成路线 | 第19页 |
·介孔材料的形成机理 | 第19-23页 |
·液晶模板机理 | 第20-21页 |
·协调作用机理 | 第21页 |
·电荷匹配机理 | 第21-22页 |
·棒状自组装模型 | 第22页 |
·其他形成机理 | 第22-23页 |
·介孔材料的应用 | 第23-25页 |
·介孔材料在催化方面的应用 | 第23-24页 |
·酸碱催化 | 第23页 |
·氧化还原催化 | 第23-24页 |
·聚合反应催化 | 第24页 |
·介孔材料在环保方面的应用 | 第24页 |
·介孔材料在生物方面的应用 | 第24页 |
·介孔材料在光电磁学方面的应用 | 第24-25页 |
·本课题研究的目的和意义 | 第25-27页 |
·课题研究的目的和主要内容 | 第25页 |
·课题研究的意义 | 第25-27页 |
第二章 实验部分 | 第27-32页 |
·主要试剂原料和仪器 | 第27-28页 |
·主要实验原料与化学试剂 | 第27页 |
·主要仪器 | 第27-28页 |
·样品的制备 | 第28页 |
·介孔Co-MCM-41 复合材料的合成 | 第28页 |
·介孔C0~0-MCM-41 复合材料的制备 | 第28页 |
·样品的表征 | 第28-32页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第28-29页 |
·氮气等温吸脱附 | 第29页 |
·透射电镜(TEM) | 第29-30页 |
·扫描电镜(SEM) | 第30页 |
·程序升温还原(TPR) | 第30页 |
·X-光电子能谱(XPS) | 第30-31页 |
·磁性分析 | 第31-32页 |
第三章 介孔Co-MCM-41 分子筛的合成 | 第32-51页 |
·引言 | 第32页 |
·合成与表征 | 第32页 |
·结果与讨论 | 第32-50页 |
·空白样 MCM-41 的合成 | 第32-35页 |
·NH_3-H_2O使用量的影响 | 第32-34页 |
·反应温度的影响 | 第34-35页 |
·Co-MCM-41 的合成 | 第35-45页 |
·Co:Si 的影响 | 第35-38页 |
·反应温度的影响 | 第38-40页 |
·加料顺序的影响 | 第40-41页 |
·CTAB/TEOS 的影响 | 第41-42页 |
·反应时间的影响 | 第42-44页 |
·不同碱介质的影响 | 第44-45页 |
·最优合成条件下介孔Co-MCM-41 复合材料的物理化学性质 | 第45-50页 |
·XRD 表征 | 第45-46页 |
·SEM/TEM 表征 | 第46-47页 |
·N2-吸脱附表征 | 第47-48页 |
·EDS 表征 | 第48-49页 |
·TPR 表征 | 第49-50页 |
·小结 | 第50-51页 |
第四章 零价态钴嵌入骨架型的介孔Co~0-MCM-41 分子筛的制备与研究 | 第51-62页 |
·引言 | 第51页 |
·实验部分 | 第51页 |
·结果与讨论 | 第51-61页 |
·还原温度的影响 | 第51-53页 |
·还原时间的影响 | 第53-54页 |
·最佳条件下合成Co~0-MCM-41 的物理化学性质 | 第54-61页 |
·XRD 表征 | 第54-55页 |
·N2-吸脱附表征 | 第55-57页 |
·SEM/TEM 表征 | 第57-59页 |
·XPS 表征 | 第59-60页 |
·磁性测性 | 第60-61页 |
·小结 | 第61-62页 |
第五章 零价态钴嵌入骨架型的介孔钴-氧化硅复合材料的形成机理 | 第62-64页 |
·引言 | 第62页 |
·Co~0-MCM-41 的形成机理初探 | 第62-63页 |
·小结 | 第63-64页 |
结论 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-76页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第76-77页 |
致谢 | 第77页 |