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零价金属嵌入骨架型的介孔钴—氧化硅复合材料的制备与研究

摘要第1-8页
Abstract第8-13页
第一章 绪论第13-27页
   ·引言第13页
   ·介孔材料的分类第13-16页
     ·介孔二氧化硅第14页
     ·介孔金属氧化物第14-15页
     ·介孔碳第15-16页
     ·介孔磷酸盐第16页
     ·介孔金属第16页
   ·介孔材料的合成过程第16-19页
     ·硬模板法第17页
     ·软模板法第17-19页
       ·离子路线第18-19页
       ·混合表面活性剂合成路线第19页
       ·非离子路线第19页
       ·有机金属表面活性剂合成路线第19页
   ·介孔材料的形成机理第19-23页
     ·液晶模板机理第20-21页
     ·协调作用机理第21页
     ·电荷匹配机理第21-22页
     ·棒状自组装模型第22页
     ·其他形成机理第22-23页
   ·介孔材料的应用第23-25页
     ·介孔材料在催化方面的应用第23-24页
       ·酸碱催化第23页
       ·氧化还原催化第23-24页
       ·聚合反应催化第24页
     ·介孔材料在环保方面的应用第24页
     ·介孔材料在生物方面的应用第24页
     ·介孔材料在光电磁学方面的应用第24-25页
   ·本课题研究的目的和意义第25-27页
     ·课题研究的目的和主要内容第25页
     ·课题研究的意义第25-27页
第二章 实验部分第27-32页
   ·主要试剂原料和仪器第27-28页
     ·主要实验原料与化学试剂第27页
     ·主要仪器第27-28页
   ·样品的制备第28页
     ·介孔Co-MCM-41 复合材料的合成第28页
     ·介孔C0~0-MCM-41 复合材料的制备第28页
   ·样品的表征第28-32页
     ·X-射线衍射(XRD)第28-29页
     ·氮气等温吸脱附第29页
     ·透射电镜(TEM)第29-30页
     ·扫描电镜(SEM)第30页
     ·程序升温还原(TPR)第30页
     ·X-光电子能谱(XPS)第30-31页
     ·磁性分析第31-32页
第三章 介孔Co-MCM-41 分子筛的合成第32-51页
   ·引言第32页
   ·合成与表征第32页
   ·结果与讨论第32-50页
     ·空白样 MCM-41 的合成第32-35页
       ·NH_3-H_2O使用量的影响第32-34页
       ·反应温度的影响第34-35页
     ·Co-MCM-41 的合成第35-45页
       ·Co:Si 的影响第35-38页
       ·反应温度的影响第38-40页
       ·加料顺序的影响第40-41页
       ·CTAB/TEOS 的影响第41-42页
       ·反应时间的影响第42-44页
       ·不同碱介质的影响第44-45页
     ·最优合成条件下介孔Co-MCM-41 复合材料的物理化学性质第45-50页
       ·XRD 表征第45-46页
       ·SEM/TEM 表征第46-47页
       ·N2-吸脱附表征第47-48页
       ·EDS 表征第48-49页
       ·TPR 表征第49-50页
   ·小结第50-51页
第四章 零价态钴嵌入骨架型的介孔Co~0-MCM-41 分子筛的制备与研究第51-62页
   ·引言第51页
   ·实验部分第51页
   ·结果与讨论第51-61页
     ·还原温度的影响第51-53页
     ·还原时间的影响第53-54页
     ·最佳条件下合成Co~0-MCM-41 的物理化学性质第54-61页
       ·XRD 表征第54-55页
       ·N2-吸脱附表征第55-57页
       ·SEM/TEM 表征第57-59页
       ·XPS 表征第59-60页
       ·磁性测性第60-61页
   ·小结第61-62页
第五章 零价态钴嵌入骨架型的介孔钴-氧化硅复合材料的形成机理第62-64页
   ·引言第62页
   ·Co~0-MCM-41 的形成机理初探第62-63页
   ·小结第63-64页
结论第64-66页
参考文献第66-76页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第76-77页
致谢第77页

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