| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·Ti-Si-N薄膜的研究现状 | 第8-9页 |
| ·论文工作的内容和意义 | 第9-10页 |
| 第二章 薄膜制备技术及应用介绍 | 第10-19页 |
| ·常见的薄膜制备方法 | 第10-11页 |
| ·真空阴极电弧离子沉积技术 | 第11-17页 |
| ·阴极弧制备薄膜的应用 | 第17-19页 |
| 第三章 实验方法及设备 | 第19-22页 |
| ·实验设备简介 | 第19-20页 |
| ·试验用材料成分 | 第20页 |
| ·检测样品的制备 | 第20页 |
| ·薄膜组织结构分析 | 第20-21页 |
| ·薄膜的性能测试 | 第21-22页 |
| 第四章 利用阴极弧制备Ti-Si-N复合薄膜的研究 | 第22-35页 |
| ·硅烷流量对薄膜化学成分的影响 | 第23-25页 |
| ·Ti-Si-N薄膜的组成及结构分析 | 第25-29页 |
| ·Ti-Si-N薄膜性能的研究 | 第29-35页 |
| 结论 | 第35-36页 |
| 致谢 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-43页 |
| 附录 | 第43页 |